[发明专利]CMP站清洁的系统和方法有效
| 申请号： | 201310084294.6 | 申请日： | 2013-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN103909474B | 公开（公告）日： | 2017-09-26 |
| 发明（设计）人： | 林国楹;蔡腾群;潘婉君;张翔笔;陈继元 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人： | 章社杲,孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种CMP站清洁系统和方法。一个实施例包括化学机械抛光CMP站，该CMP站包括用于覆盖CMP站不同部件的壳体单元。CMP站进一步包括浆料臂防护罩、浆料喷嘴、衬垫调节臂防护罩、压板防护罩、和载体头的不同表面；以及壳体单元的内部和垂直表面。将清洁液传送系统配置成作为定期向CMP站的不同表面配给清洁液。 | ||
| 搜索关键词： | cmp 清洁 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光站，包括：壳体单元，用于封闭化学机械抛光站的部件；表面，位于所述壳体单元内，所述表面包括：浆料臂防护罩的表面；浆料喷嘴的外表面；衬垫调节臂防护罩的表面；压板防护罩的表面；载体头的外表面；和所述壳体单元的内表面和垂直表面；以及清洁液配给系统，被配置为以设置的时间间隔将清洁液配给所述化学机械抛光站的表面，其中，所述清洁液配给系统包括：第一清洁液传送管，在所述浆料臂防护罩上面沿着浆料臂的长度方向设置；第二清洁液传送管，在所述浆料臂防护罩与浆料传送管之间沿着所述浆料臂的长度方向设置；其中，所述第一清洁液传送管和所述第二清洁液传送管配置为通过所述第一清洁液传送管和所述第二清洁液传送管的侧壁中的开口输送所述清洁液。
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