[发明专利]表面保护膜、转印构件、图像形成装置和图像形成方法有效
| 申请号： | 201310072284.0 | 申请日： | 2013-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN103304982B | 公开（公告）日： | 2017-06-09 |
| 发明（设计）人： | 吉泽久江;穴泽一则;三枝浩;鸟越薰 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | C08L75/04 | 分类号： | C08L75/04;C08K3/04;B32B27/06;B32B27/40;G03G15/16;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 李辉,黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种表面保护膜、转印构件、图像形成装置和图像形成方法。该表面保护膜包括自修复性聚氨酯树脂和导电粉末。在表面保护膜中，导电粉末的含量为聚氨酯树脂的体积的约5vol%以上且约25vol%以下。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 保护膜 构件 图像 形成 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种表面保护膜，所述表面保护膜包括：自修复性聚氨酯树脂；和导电粉末，其中，所述导电粉末的含量为所述聚氨酯树脂的体积的5vol％以上且25vol％以下，其中，所述导电粉末的含量为所述聚氨酯树脂的质量的8质量％以上且30质量％以下，其中，所述导电粉末具有10nm以上且30nm以下的平均粒径。
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