[发明专利]一种利用扫描电镜在单根微纳线上制作金属电极的方法

摘要

本发明一种利用扫描电镜在单根微纳线上制作金属电极的方法，属于微纳器件设计及制造领域。本发明仅利用简单的扫描电镜及镀膜仪，通过在单根微纳线两端制作金属电极。电极覆盖在微纳线上面，与微纳线形成稳固的电极接触，保证了电性能测量过程中信号的稳定性。作为电极的金属可以有多种选择，为设计构建多种形式的微纳器件提供了技术支持。制作过程不使用FIB等昂贵设备，达到了制作同样电极的效果，节约成本，简便易行。

主权项

一种利用扫描电镜在单根微纳线上制作金属电极的方法，其特征在于： a. 在绝缘硅片衬底(1)上旋涂聚甲基丙烯酸甲酯PMMA电子束刻蚀胶(2)，并烘烤固膜；b. 电子束刻蚀:将上述步骤处理后的绝缘硅片置于扫描电镜中，调整电镜放大倍数，使电子束辐照一小部分PMMA，辐照面积等同于电镜显示器画面代表面积；c. 显影定影: 使用显影液和定影液洗去受电子束辐照而降解的PMMA；d. 直流溅射: 将经步骤c处理后的绝缘硅片放入直流溅射仪中，进行金属的直流溅射，形成厚度为100nm的金属薄膜；e. 剥离余胶:将经步骤d处理后的绝缘硅片分别泡在丙酮、乙醇、异丙醇中各超声60秒，将尚未曝光的PMMA清除并清洗干净，最终在绝缘硅片衬底上得到材质为溅射金属的标记；f. 将微纳线分散在异丙醇溶液里，并滴加到经步骤e处理后的绝缘硅片衬底(上，在扫描电镜中，读出并记录下金属标记的绝对位置，并记录下微纳线(3)上预作金属电极处的绝对位置，算出预作金属电极处对金属标记的相对坐标位置(X1，Y1)及(X2，Y2)；g. 在经步骤f处理后的绝缘硅片重复步骤a处理；h. 将经步骤g处理后的绝缘硅片置于扫描电镜中，在扫描电镜中聚焦对准金属标记，并记录下此时金属标记的绝对位置，根据预作金属电极处对金属标记的相对位置，算出此时预作金属电极处的绝对位置，利用电镜样品台将预作金属电极处的绝对位置移动到电子束正下方；i. 重复步骤b电子束刻蚀、c显影定影、d直流溅射和e剥离余胶四个步骤，最终得到所需要的覆盖在一维微纳线上的金属电极。