[发明专利]电子光学设备、X射线发射装置及产生电子束的方法有效
申请号: | 201310056578.4 | 申请日: | 2007-10-08 |
公开(公告)号: | CN103177919A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | S·胡特曼;W·马林;S·霍尔茨阿普费尔 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | H01J35/14 | 分类号: | H01J35/14 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;刘炳胜 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 描述了一种电子光学布置、一种X射线发射装置和一种产生电子束的方法。一种电子光学设备(1)包括下述沿光轴(25)布置的部件:具有发射器(3)的阴极,所述发射器(3)具有用于发射电子的基本平坦的表面(9);用于在基本在所述光轴(25)的方向上对所发射的电子进行加速的阳极(11);用于使经过加速的电子发生偏转的并且具有第一磁轭(41)的第一磁四极透镜(19);用于使经过加速的电子进一步发生偏转的并且具有第二磁轭(51)的第二磁四极透镜(21);以及用于使经过加速的电子进一步发生偏转的磁偶极透镜(23)。 | ||
搜索关键词: | 电子光学 设备 射线 发射 装置 产生 电子束 方法 | ||
【主权项】:
一种电子光学设备(1),其包括下述沿光轴(25)布置的部件:包括发射器(3)的阴极,其中,所述发射器具有用于均匀地发射电子束中的电子的无结构的或精细结构的表面(9),使得所发射的电子的侧向能量分量得到降低;用于在基本沿所述光轴(25)的方向上对所发射的电子进行加速的阳极(11);用于使经过加速的电子发生偏转以聚焦所述电子束的并且具有第一磁轭(41)的第一磁四极透镜(19),所述第一磁四极透镜还具有用于在第一方向上聚焦所述电子束并且在垂直于所述第一方向的第二方向上散焦所述电子束的磁四极梯度;用于使经过加速的电子进一步发生偏转以聚焦所述电子束的并且具有第二磁轭(51)的第二磁四极透镜(21),所述第二磁四极透镜还具有用于在所述第二方向上聚焦所述电子束并且在所述第一方向上散焦所述电子束的磁四极梯度;以及用于使经过加速的电子进一步发生偏转的磁偶极透镜(23);其中,所述第一磁四极透镜的磁四极梯度和所述第二磁四极透镜的磁四极梯度相对于彼此旋转大约90°,并且其中,所述第一磁四极透镜和所述第二磁四极透镜的顺次组合提供了在所述电子束的焦斑的第一方向和第二方向两者上的净聚焦效应。
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