[发明专利]电子射线照射装置有效

专利信息
申请号: 201310054910.3 申请日: 2013-02-20
公开(公告)号: CN103287636B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 澁谷弘利;中俊明;西纳幸伸;阿部亮;西富久雄;山本幸宏 申请(专利权)人: 澁谷工业株式会社
主分类号: B65B55/08 分类号: B65B55/08
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 代理人: 姜虎,陈英俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种电子射线照射装置,抑制由从电子射线发生部(34)照射的电子射线在真空室(40)内产生X射线的现象。在维持真空状态的真空室(40)内配置电子射线发生部(34),从该电子射线发生部(34)照射的电子射线经由安装在真空室(40)的壁面上所形成的开口部(36b)中的照射窗(44)而向外部释放。在该照射窗(44)的窗框(48)等的被照射电子射线的部位安装并覆盖有碳纤维增强塑料(56)的板体。
搜索关键词: 电子 射线 照射 装置
【主权项】:
一种电子射线照射装置,用于对物品进行杀菌,其特征在于,具备:真空室,由形成有电子射线照射用的开口部的壁面包围,内部气氛处于真空;电子射线发生部,配置在该真空室内;窗框,以围绕所述真空室的开口部的方式安装;照射膜,固定在该窗框上,供真空室内发生的电子射线透过;杀菌腔室,围绕照射膜与所述真空室连接;以及输送单元,设置在杀菌腔室内,用于输送被电子射线照射的物品,由金属形成所述窗框,并且所述窗框的面向所述真空室内的部位的表面由碳纤维增强塑料覆盖。
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