[发明专利]电子射线照射装置有效
申请号: | 201310054910.3 | 申请日: | 2013-02-20 |
公开(公告)号: | CN103287636B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 澁谷弘利;中俊明;西纳幸伸;阿部亮;西富久雄;山本幸宏 | 申请(专利权)人: | 澁谷工业株式会社 |
主分类号: | B65B55/08 | 分类号: | B65B55/08 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人: | 姜虎,陈英俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 射线 照射 装置 | ||
技术领域
本发明涉及将电子射线照射在物品(被照射物)上来进行杀菌等处理的电子射线照射装置,特别涉及可以抑制由电子射线的照射发生的X射线的量的电子射线照射装置。
背景技术
电子射线照射装置将从电子射线发生装置经由照射窗释放的电子射线照射在由输送单元输送的物品上,从而进行杀菌及其它处理。通常已知,当从该电子射线照射装置释放的电子射线被照射在设置有输送单元的杀菌室或发生电子射线的真空室内的金属制部件上时,会产生X射线。已出现了用于抑制该X射线的发生的发明(例如参照专利文献1)、进行屏蔽以避免X射线泄漏到外部的发明(例如参照专利文献2)。
专利文献1所记载的发明构成为,在与照射电子射线的电子射线照射单元对置的位置上配置射线收注栅,用铝覆盖该射线收注栅的电子射线照射侧的外表面,进一步在铝板上覆盖PE(聚乙烯)罩。
此外,在专利文献2所记载的发明的构成中,使照射室整体做成屏蔽X射线的构造,并且设置有包围该照射室内的照射空间及射线收注栅的X射线屏蔽结构体。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本实开平3-15421号公报
专利文献2:日本特开2010-8387号公报
发明内容
发明所要解决的问题
上述各引用文献所记载的发明,均为将电子射线照射在物品上来进行杀菌等处理的区域中的对策,而未考虑发生电子射线的真空室侧。在真空室内,当电子射线撞击金属时也会发生X射线。简单说明该情况如下:在真空室内发生的电子射线,通过在室内的壁面上形成的开口部上所安装的窗框的照射膜向外部(处理区域侧)照射。电子射线几乎直线行进,但一部分会撞击窗框或撞击用于固定窗框的壁面,所以在真空室内也发生X射线。因此,为了不将X射线泄漏到外部,由铅部件覆盖装置整体。为了避免使X射线泄漏到外部,需要用厚的铅制部件来覆盖,相应地提高了成本。
本发明是为了解决上述课题而完成的,其目的在于提供电子射线照射装置,不仅可以抑制在通过电子射线照射进行物品处理的区域,还可以抑制发生电子射线的真空室内的X射线的发生。
解决问题的方法
本发明的电子射线照射装置的特征在于,具备:真空室,被形成有电子射线照射用的开口部的壁面包围,内部气氛处于真空;电子射线发生部,配置在该真空室内;窗框,以围绕所述真空室的开口部的方式安装;以及照射膜,固定在该窗框上,供真空室内发生的电子射线透过,其中,所述窗框的面向所述真空室内的部位的表面由原子序数10以下的材料覆盖。
此外,第二发明的特征在于,在上述第一发明中,在所述照射膜的隔着被照射电子射线的被照射物的对面侧,设置接受所照射的电子射线的射线收注栅,该射线收注栅的表面由原子序数10以下的材料覆盖。
进一步,第三发明的特征在于,在上述第一或第二发明中,所述真空室的开口部附近的内壁表面由原子序数10以下的材料覆盖。
此外,第四发明的特征在于,在上述第一至第三发明中,所述材料为以碳或氟为主成分的材料。
此外,第五发明的特征在于,在上述第一至第三发明中,所述材料为碳纤维增强塑料。
此外,第六发明的特征在于,在上述第一至第三发明中,所述窗框由铜形成,并且面向所述真空室内的部位由碳纤维增强塑料覆盖。
此外,第七发明的特征在于,在上述第一至第三发明中,所述窗框在上下并排设置有多个窗棂,并且各窗棂的上下面由碳纤维增强塑料覆盖。
发明效果
本发明的电子射线照射装置,因安装在真空室的开口部上的照射窗的窗框的、面向电子射线发生部侧的面由原子序数10以下的材料覆盖,因此可以大幅度抑制在真空室的内部由电子射线的照射引起的X射线的发生。
附图说明
图1是具备电子射线照射装置的电子射线杀菌装置的俯视图。
图2是设置在所述电子射线照射装置上的照射窗的横剖视图。
图3是设置在所述电子射线照射装置上的窗框的主视图。
图4是设置在所述电子射线照射装置上的照射窗的纵剖视图。
图5是设置在所述电子射线照射装置上的射线收注栅的主视图。
附图标记:
34 电子射线发生部
36b开口部
40 真空室
48 窗框(窗口)
52 照射膜
56 材料(碳纤维增强塑料)
具体实施方式
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