[发明专利]用于衬底处理室的处理配件和靶材有效
| 申请号： | 201310053011.1 | 申请日： | 2006-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN103147049A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 凯瑟琳·沙伊贝尔;迈克尔·艾伦·弗拉尼根;良土芽吾一;阿道夫·米勒·艾伦;克里斯托弗·帕夫洛夫 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种处理配件，该处理配件包括在衬底处理室中设置于衬底支架周围的环组件，用于减少沉积在室组件和衬底的悬伸边上的工艺沉积物。该处理配件包括沉积环、盖环以及防升托架，并且还包括整体护板。同时还对靶材进行了说明。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 衬底 处理 配件 | ||
【主权项】：
一种在衬底处理室中用于在衬底支架周围保持沉积环的固定组件，所述沉积环包括具有固定柱的外围凹槽，并且所述固定组件包括：（a）可以与所述衬底支架连接的限制梁，所述限制梁包括两端；（b）防升托架，所述防升托架包括：（i）包括用于容纳限制梁一端的直通通道的部件；和（ii）与所述部件连接的固定环，设计所述固定环的尺寸使所述固定环在所述沉积环的所述外围凹槽中的所述固定柱上部滑动，并且其中所述直通通道适于在所述限制梁一端上滑动使得所述固定环环绕所述固定柱。
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