[发明专利]对可见光敏感的光催化剂、其制法及含其的分解池和系统有效

专利信息
申请号: 201310051521.5 申请日: 2013-02-17
公开(公告)号: CN103372431B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 金泰坤;任承宰;金泰亨;李晶姬 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: B01J23/66 分类号: B01J23/66;C25B1/04;C02F1/30
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 金拟粲
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及对可见光敏感的光催化剂、其制法及含其的分解池和系统。所述对可见光敏感的光催化剂由通过异质结结合的至少两种金属氧化物的复合物组成,其中各金属氧化物包括具有nd10的电子排布的金属,其中n是3、4或5,其中所述金属之间的键具有小于所述金属之间的范德华距离的长度,其中所述复合物具有约1.0eV到约2.5eV的带隙能量。
搜索关键词: 可见光 敏感 光催化剂 制法 分解 系统
【主权项】:
对可见光敏感的光催化剂,其包括通过异质结结合的至少两种金属氧化物的复合物,其中所述至少两种金属氧化物各自包括具有nd10的电子排布的金属,其中n是3、4或5,其中所述金属之间的键具有小于所述金属之间的范德华距离的长度,和其中所述复合物具有1.0eV到2.5eV的带隙能量,其中所述对可见光敏感的光催化剂包括通过异质结结合的由下式1表示的金属氧化物和由下式2表示的金属氧化物的复合物:<式1>M1m(SiaA1‑a)bOc其中,在式1中,M1是Cu、Ag或Au,A是Ge或Sn,1.5≤m≤2.5,0≤a≤1,0.7≤b≤1.3和2.7≤c≤3.3,<式2>M1n{(SidA1‑d)Oe}fC1g其中,在式2中,M1是Cu、Ag或Au,A是Ge或Sn,C1是金属盐M1C1的阴离子,其包括NO3‑、F‑、Cl‑、Br‑或I‑阴离子,8≤n≤10,0<d<1,3.5≤e≤4.5,1.5≤f≤2.5和0.5≤g≤1.5。
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