[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 201310029962.5 | 申请日： | 2013-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN103969956B | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 何帅;许琦欣;王帆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置，其用于将电路图形投影于基底上，所述曝光装置包括照明模块，提供照明光；成像模块，包括至少一个第一光开关及至少两个成像单元，其中，所述第一光开关与所述成像单元的数量比为12，一个所述第一光开关与两个所述成像单元相对应，所述第一光开关能够在开启与关闭两个状态之间切换，所述第一光开关将所述照明光分别在所述第一光开启与关闭两个状态下输出，所述至少两个成像单元分别接收从所述第一光开关处输出的照明光，并将曝光图形成像于所述基底上；以及工件台，所述基底置于所述工件台上，本发明提供的曝光装置节省了现有技术的曝光装置所需损耗的能量，增加了其曝光的效率，并有效降低了其曝光图形的模糊度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，用于将电路图形投影于基底上，其特征在于，包括：照明模块；提供均匀的照明光；成像模块，包括至少一个第一光开关及至少两个成像单元，其中，所述第一光开关与所述成像单元的数量比为1:2，一个所述第一光开关与两个所述成像单元相对应，所述第一光开关能够在开启与关闭两个状态之间切换，所述第一光开关将所述照明光分别在所述第一光开关开启与关闭两个状态下输出，所述至少两个成像单元分别接收从所述第一光开关处输出的照明光，并将曝光图形成像于所述基底上；以及工件台，所述基底置于所述工件台上，所述工件台能够带动所述基底做六自由度的运动；所述成像单元包括第二空间光调制器和投影物镜，所述第二空间光调制器与所述投影物镜的数量相同并且一一对应匹配，所述第二空间光调制器用于接收从所述第一光开关处输出的照明光，并通过所述投影物镜将所述曝光图形成像于所述基底上。
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