[发明专利]曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，用于将电路图形投影于基底上，其特征在于，包括：

照明模块；提供均匀的照明光；

成像模块，包括至少一个第一光开关及至少两个成像单元，其中，所述第一光开关与所述成像单元的数量比为1:2，一个所述第一光开关与两个所述成像单元相对应，所述第一光开关能够在开启与关闭两个状态之间切换，所述第一光开关将所述照明光分别在所述第一光开启与关闭两个状态下输出，所述至少两个成像单元分别接收从所述第一光开关处输出的照明光，并将曝光图形成像于所述基底上；以及

工件台，所述基底置于所述工件台上，所述工件台能够带动所述基底做六自由度的运动。

2.根据权利要求1所述曝光装置，其特征在于，所述第一光开关为第一空间光调制器。

3.根据权利要求1所述曝光装置，其特征在于，所述成像单元包括第二空间光调制器和投影物镜，所述第二空间光调制器与所述投影物镜的数量相同并且一一对应匹配，所述第二空间光调制器用于接收从所述第一光开关处输出的照明光，并通过所述投影物镜将所述曝光图形成像于所述基底上。

4.根据权利要求3所述曝光装置，其特征在于，所述成像单元还包括第二光吸收器，所述第二空间光调制器能够在开启与关闭两个状态之间切换，当所述第二空间光调制器处于开启状态时，其用于接收从所述第一光开关处输出的光，并通过所述投影物镜将曝光图形成像于所述基底上；当所述第二空间光调制器处于关闭状态时，其将接收到的光折射入所述第二光吸收器中。

5.根据权利要求1所述曝光装置，其特征在于，所述照明模块包括光源、匀光单元、准直单元和反射镜，所述光源发出光束，所述匀光单元使所述光束能量均匀化，所述准直单元调整所述光束的发散角和方位角，所述反射镜将所述光束以一定角度导入所述成像模块中。

6.根据权利要求5所述曝光装置，其特征在于，所述光源包括汞灯、分色镜和第一光吸收器，所述汞灯发出光束，所述分色镜将所述光束中特定波长的光线反射向所述匀光单元，所述第一光吸收器吸收所述光束中其他波长的光线。

7.根据权利要求5所述曝光装置，其特征在于，所述匀光单元包括耦合透镜和积分棒，所述光源发出的光束穿过所述耦合透镜并由所述积分棒进行匀光。

8.根据权利要求5所述曝光装置，其特征在于，所述准直单元为聚光镜组，所述聚光镜组将经过所述匀光单元的光束进行处理，使其具有合适的照明视场和入射角度。

9.根据权利要求1所述曝光装置，其特征在于，还包括垂向位置测量单元，所述垂向位置测量单元用于测量所述基底的垂向位置。

10.根据权利要求1所述曝光装置，其特征在于，所述成像模块中的成像单元的数量以2ⁿ倍数拓展，第一光开关的数量相应以2^n-1倍数拓展，n取大于等于1的正整数，其中，当n取大于等于2的正整数时，在所述照明模块与成像模块之间增加第二光开关及反射镜，所述第二光开关的数量为2⁰+2¹+......+2^n-2，且所述第二光开关与所述反射镜的数量比为1：2。

11.根据权利要求10所述曝光装置，其特征在于，所述成像模块中的成像单元的数量拓展为四个，第一光开关的数量拓展为两个，相应的在所述照明模块与成像模块之间增加一个第二光开关及两个反射镜，所述第二光开关通过其开启和关闭状态的切换分别将从照明模块射入的照明光进行输出，其输出的照明光通过所述两个反射镜分别反射到所述两个第一光开关，所述两个第一光开关将所述照明光通过其状态切换分为四路输出到所述四个成像单元中。

12.根据权利要求11所述曝光装置，其特征在于，所述两个第一光开关和四个成像单元的几何中心均位于同一平面内。

13.根据权利要求11所述曝光装置，其特征在于，所述两个第一光开关中的一个光开关及两个成像单元的几何中心位于第一平面内，所述两个第一光开关中的另一个光开关及另两个成像单元的几何中心位于第二平面内，所述第一平面与所述第二平面平行。

14.根据权利要求10所述曝光装置，其特征在于，所述成像模块中的成像单元的数量拓展为八个，第一光开光的数量拓展为四个，相应的在所述照明模块与成像模块之间增加三个第二光开关及六个反射镜，所述三个第二光开关中的一个第二光开关通过其开启和关闭状态的切换分别将从照明模块射入的照明光进行输出，其输出的光通过所述六个反射镜中的两个反射镜反射到所述三个第二光开关中的另两个第二光开关上，所述另两个第二光开关将照明光通过其状态切换分为四路输出，其输出的光通过所述六个反射镜中的另四个反射镜反射到所述四个第一光开关上，所述四个第一光开关将照明光通过其状态切换分为八路输出到所述八个成像单元中。