[发明专利]感光材料和光刻方法有效
| 申请号： | 201310024509.5 | 申请日： | 2013-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN103454856B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人： | 章社杲,孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 感光材料和形成图案的方法，包括提供可通过操作浮动到由感光材料形成的层的顶部区域的感光材料的组分成分。在实例中，感光层包括具有氟原子(例如，烷基氟化物基团)的第一组分。在形成感光层后，第一组分浮动到感光层的顶面。此后，图案化感光层。本发明提供了感光材料和光刻方法。 | ||
| 搜索关键词： | 感光材料 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种感光材料，包括：溶剂；光生酸剂组分；以及猝灭剂组分，其中，所述猝灭剂组分包含连接至所述猝灭剂组分的C2F5的烷基氟化物基团，其中，所述猝灭剂组分具有以下化学式：其中，R4，R5和R6是烷基氟化物基团并且R4，R5和R6包括C2F5基团。
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