[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统在审
| 申请号： | 201280076413.7 | 申请日： | 2012-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN104718499A | 公开（公告）日： | 2015-06-17 |
| 发明（设计）人： | M.帕特拉 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈金林 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种微光刻投射曝光设备的照明系统，包含光学积分器(70)，该光学积分器包括第一光栅板(74)及第二光栅板(76)。第一光栅板(74)包含沿着参考方向(X)具有第一焦距f1的第一透镜(78)的阵列，第二光栅板(76)包含沿着参考方向(X)具有第二焦距f2的第二透镜(84)的阵列。第一透镜的顶点及第二透镜的顶点隔开大于第二焦距f2的距离d，使得d>1.01·f2。这确保激光指向或光学积分器的照明的另一瞬时变化不会不利地影响平面(90)中由光学积分器(70)照明的空间辐照分布。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 照明 系统 | ||
【主权项】：
一种微光刻投射曝光设备的照明系统，包含光学积分器(70)，其中，所述光学积分器包含：a)第一光栅板(74)，其包含沿着参考方向(X)具有第一焦距f1的第一透镜(78)的阵列；b)第二光栅板(76)，其包含沿着所述参考方向(X)具有第二焦距f2的第二透镜(84)的阵列；其中，所述第一透镜的顶点及所述第二透镜的顶点隔开大于所述第二焦距f2的距离d，其中，d>1.01·f2。
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