[发明专利]光学校准盘在审
| 申请号： | 201280068846.8 | 申请日： | 2012-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN104126202A | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | N·仓高;G·高兹纳;Z·于 | 申请（专利权）人： | 希捷科技有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/855 | 分类号： | G11B5/855 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 何焜 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于光学校准盘的系统和方法包括在衬底的一部分上分配抗蚀剂层。衬底的表面和模板的预定对象的形貌图案化表面接触到一起，其中接触使得衬底部分和模板之间的抗蚀剂层与形貌图案化表面共形，并且抗蚀剂层包括纳米尺度孔隙。纳米尺度孔隙通过更长的扩散时间、更薄的抗蚀剂以及通过使用去渣步骤对残留抗蚀剂层连同孔隙的去除而减少。抗蚀剂层被硬化成形貌图案化表面的负像，其中所述负像包括可用于被光学读取器单独测量的表面。衬底和模板被分离，其中抗蚀剂层附着于衬底的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 校准 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：在衬底的一部分上分配抗蚀剂层；使所述衬底的表面和模板的预定对象的形貌图案化表面接触在一起，其中所述接触使得所述衬底的所述部分和所述模板之间的所述抗蚀剂层与所述形貌图案化表面共形，并且所述抗蚀剂层包括纳米尺度孔隙；减少所述纳米尺度孔隙；将所述抗蚀剂层加固成所述形貌图案化表面的负像，其中所述负像包括能用于被光学读取器单独测量的表面；以及分离所述衬底和所述模板，其中所述抗蚀剂层附着于所述衬底的所述表面。
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