[发明专利]氧还原催化剂及其制造方法在审
申请号: | 201280066888.8 | 申请日: | 2012-07-19 |
公开(公告)号: | CN104040766A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 手冢记庸;堀北雅挥;吉村真幸;伊藤祐司;佐藤孝志 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | H01M4/90 | 分类号: | H01M4/90;B01J27/24;B01J37/08;H01M4/88 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘航;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明为一种氧还原催化剂,其包含钛化合物的一次粒子分散在碳的结构体中的复合粒子,其特征在于,具有钛、碳、氮、以及氧来作为构成元素,上述各元素的原子数的比,在将钛设为1的情况下,碳的比大于2且为5以下、氮的比大于0且为1以下,氧的比为1以上3以下,且拉曼光谱中的D带的峰强度相对于G带的峰强度的强度比即D/G比为0.4~1.0。本发明的氧还原催化剂具有良好的初期性能,且起动停止耐久性优异。 | ||
搜索关键词: | 还原 催化剂 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种氧还原催化剂,是包含复合粒子的氧还原催化剂,所述复合粒子是钛化合物的一次粒子分散在碳的结构体中而成的,所述氧还原催化剂的特征在于,所述复合粒子,具有钛、碳、氮、以及氧作为构成元素,所述各元素的原子数的比,在将钛设为1的情况下,碳的比大于2且为5以下、氮的比大于0且为1以下,氧的比为1以上3以下,且拉曼光谱中的D带的峰强度相对于G带的峰强度的强度比即D/G比为0.4~1.0。
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