[发明专利]压力掩蔽系统及其使用方法

摘要

本发明公开了一种压力掩蔽系统及其使用方法，所述方法是对制品的包括一个或多个通路的目标表面进行压力清洁或压力涂布的方法，所述方法包括：使包括加压掩蔽流体的压力掩蔽体与至少一个通路的第一侧流体连通；使得所述加压掩蔽流体从所述第一侧穿过所述至少一个通路到达包括所述目标表面的第二侧；以及使用清洁材料清洁所述目标表面(或使用涂布材料涂布所述目标表面)，其中穿过所述至少一个通路的所述加压掩蔽流体防止所述清洁材料(或涂布材料)永久地改变所述至少一个通路的截面面积。

主权项

一种对制品的包括一个或多个通路的目标表面进行压力清洁或压力涂布的方法，所述方法包括：使包括加压掩蔽流体的压力掩蔽体与至少一个通路的第一侧流体连通；使得所述加压掩蔽流体从所述第一侧穿过所述至少一个通路到达包括所述目标表面的第二侧；以及，通过分别将清洁材料或涂布材料投向所述目标表面来清洁所述目标表面或涂布所述目标表面，其中穿过所述至少一个通路的所述加压掩蔽流体防止所述清洁材料或所述涂布材料，如果适用的话，永久地改变所述至少一个通路的截面面积。