[发明专利]处理水溶液及其污染物的装置和方法无效
申请号: | 201280059566.0 | 申请日: | 2012-11-29 |
公开(公告)号: | CN104125929A | 公开(公告)日: | 2014-10-29 |
发明(设计)人: | 特伦斯·P·巴里;托马斯·P·巴里;杰克·迈尔;安东·阿斯米特 | 申请(专利权)人: | 水魔星公司 |
主分类号: | C02F1/00 | 分类号: | C02F1/00 |
代理公司: | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人: | 董巍;谢栒 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本公开总体上针对处理水溶液的设备和方法,以去除或以其他方式降低一种或多种污染物的水平、浓度或数量。本公开涉及一种装置,该装置包括大体上独立的壳体或容器,所述壳体或容器配置为接收包括至少一个对电极(例如,阴极)和至少一个安装或设置在至少一个紫外光源周围的光电极(例如,阳极)的部件,和∕或接收、容纳和∕或循环液体或水溶液。 | ||
搜索关键词: | 处理 水溶液 及其 污染物 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种去除或降低溶液中的污染物水平的装置,包括:壳体,该壳体具有第一相对端和第二相对端,且至少部分地限定具有腔壁和腔长的空腔;光管,该光管设于所述空腔内,且配置为帮助发出或以其他方式提供覆盖大部分腔长的紫外线照射;设置于所述光管周围的光电极;设于所述光电极与所述腔壁之间的空间的对电极,以及设于所述光电极与所述对电极之间的分离器;其中所述光电极包括主要含钛的箔支持体,该箔支持体具有设置在该光电极至少一个表面上的二氧化钛层;以及其中所述光电极和对电极各自分别耦合至一个配置为电耦合至电源的终端。
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