[发明专利]透明耐热阻气性薄膜的制造方法在审
申请号: | 201280054747.4 | 申请日: | 2012-11-08 |
公开(公告)号: | CN103917364A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 末永修也;三树泰 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B32B18/00;B32B27/34;B32B37/00;B32B38/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供具有良好的阻气性且不需要大型设备、大量的工序,能够简便并且低成本地制造,即便在250℃以上进行热处理也具有良好的物性的透明耐热阻气性薄膜的制造方法。所述透明耐热阻气性薄膜的制造方法包括在由具有特定结构的重复单元的聚酰亚胺形成的透明聚酰亚胺薄膜的至少一侧的面上涂布包含聚硅氮烷的溶液之后,在180℃以上的温度下进行焙烧从而层叠硅氧化物层的工序。 | ||
搜索关键词: | 透明 耐热 气性 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种透明耐热阻气性薄膜的制造方法,其包括下述工序:在由具有下式(I)所示的重复单元的聚酰亚胺形成的透明聚酰亚胺薄膜的至少一侧的面上涂布包含聚硅氮烷的溶液之后,在180℃以上的温度下进行焙烧从而层叠硅氧化物层的工序,
式(I)中,R为环状结构、非环状结构或具有环状结构和非环状结构的、碳数4~10的4价基团,Φ为由脂肪族结构单元、脂环族结构单元、芳香族结构单元、有机硅氧烷结构单元或它们的组合或者它们重复而形成的碳数2~39的2价的连接基,在Φ的主链中可以夹有选自由‑O‑、‑SO2‑、‑CO‑、‑CH2‑、‑C(CH3)2‑、‑C2H4O‑、以及‑S‑组成的组中的至少1种基团。
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