[发明专利]图案形成方法、电子束敏感或极紫外线敏感组合物、抗蚀剂膜、使用其制造电子器件的方法和电子器件无效
| 申请号： | 201280047789.5 | 申请日： | 2012-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN103827751A | 公开（公告）日： | 2014-05-28 |
| 发明（设计）人： | 泷泽裕雄;岩户薰;椿英明 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王铁军 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种图案形成方法，所述方法包括(1)通过使用电子束敏感或极紫外线敏感树脂组合物形成膜的步骤，(2)通过使用电子束或极紫外线射线将所述膜曝光的步骤；和(3)通过使用包含有机溶剂的显影液将所曝光的膜显影的步骤，其中所述电子束敏感或极紫外线敏感树脂组合物包含：(A)树脂，所述树脂包含(R)具有能够在用电子束或极紫外线射线照射时分解以产生酸的结构部分的重复单元；以及(B)溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 电子束 敏感 紫外线 组合 抗蚀剂膜 使用 制造 电子器件 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，所述方法包括：(1)通过使用电子束敏感或极紫外线敏感树脂组合物形成膜的步骤，(2)通过使用电子束或极紫外线射线将所述膜曝光的步骤；和(3)通过使用包含有机溶剂的显影液将所曝光的膜显影的步骤，其中所述电子束敏感或极紫外线敏感树脂组合物包含：(A)树脂，所述树脂包含(R)具有能够在用电子束或极紫外线射线照射时分解以产生酸的结构部分的重复单元；以及(B)溶剂。
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