[发明专利]存储元件以及用于制造存储元件的方法在审
| 申请号： | 201280047269.4 | 申请日： | 2012-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN103828098A | 公开（公告）日： | 2014-05-28 |
| 发明（设计）人： | C.舒;T.佐勒 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | H01M4/38 | 分类号： | H01M4/38;H01M4/52;H01M10/39;H01M4/80 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 卢江;刘春元 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 存储元件以及用于制造存储元件的方法。本发明涉及用于固体电解质电池组的存储元件（10），具有由被烧结的陶瓷颗粒的多孔的基质（20）构成的基体，共同形成氧化还原对的金属和/或金属氧化物的颗粒（22）被插入到所述基质中，其中所述存储元件（10）沿着优选方向具有金属和/或金属氧化物的颗粒（22）的浓度梯度和/或孔密度和/或孔大小的梯度。因此可以控制在基体之内氧离子的扩散行为并且因此改进电池组的充电和放电动力学、寿命以及容量。 | ||
| 搜索关键词： | 存储 元件 以及 用于 制造 方法 | ||
【主权项】：
用于固体电解质电池组的存储元件（10），具有由被烧结的陶瓷颗粒的多孔的基质（20）构成的基体，共同形成氧化还原对的金属和/或金属氧化物的颗粒（22）被插入到所述基质中，其特征在于，所述存储元件（10）沿着优选方向具有金属和/或金属氧化物的颗粒（22）的浓度梯度和/或孔密度和/或孔大小的梯度。
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