[发明专利]用于胶印的移印版及其制备方法有效
| 申请号： | 201280045134.4 | 申请日： | 2012-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN103998243A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 黄智泳;具范谟 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | B41C3/08 | 分类号： | B41C3/08 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 朱梅;李海明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于胶印的移印版及其制备方法，根据本发明的用于胶印的移印版包括沟槽图案，其中，该沟槽图案至少部分区域的深度不同于剩余区域的深度。在制备用于控制当实施已知宽度的线宽时出现的底部触碰现象的用于胶印的移印版时，本发明可以包括双重蚀刻工艺，从而制备具有多种线宽和蚀刻深度的用于胶印的移印版。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 胶印 移印版 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于胶印的移印版包括：沟槽图案，其中，该沟槽图案的至少部分区域的深度不同于剩余区域的深度。
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