[发明专利]用于监测光刻图案形成装置的设备在审
| 申请号： | 201280044714.1 | 申请日： | 2012-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN103797329A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | L·斯卡克卡巴拉兹;V·班尼恩;B·卢提克惠斯;R·科莱;H·万德尔吉姆;P·格拉夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/30 | 分类号： | G01B11/30;G03F1/84;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻图案形成装置变形监测设备（38），包括：辐射源（40）、成像装置（42）以及处理器（50）。辐射源配置成将具有预定直径的多个辐射束(41)朝向光刻图案形成装置(MA)引导使得它们被图案形成装置反射。成像检测器配置成在多个辐射束被图案形成装置反射之后检测多个辐射束(41')的空间位置，处理器配置成监测多个辐射束的空间位置并由此判定图案形成装置变形的存在。成像检测器具有小于辐射束的最小衍射角的收集角。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 监测 光刻 图案 形成 装置 设备 | ||
【主权项】：
一种光刻图案形成装置变形监测设备，包括：辐射源，配置成将具有预定直径的多个辐射束朝向光刻图案形成装置引导使得它们被图案形成装置反射；成像检测器，配置成在多个辐射束被光刻图案形成装置反射之后检测多个辐射束的空间位置；和处理器，配置成监测多个辐射束的空间位置并由此判定光刻图案形成装置变形的存在，其中成像检测器具有小于辐射束的最小衍射角的收集角。
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