[发明专利]用于监测光刻图案形成装置的设备

权利要求书

1.一种光刻图案形成装置变形监测设备，包括：

辐射源，配置成将具有预定直径的多个辐射束朝向光刻图案形成装置引导使得它们被图案形成装置反射；

成像检测器，配置成在多个辐射束被光刻图案形成装置反射之后检测多个辐射束的空间位置；和

处理器，配置成监测多个辐射束的空间位置并由此判定光刻图案形成装置变形的存在，

其中成像检测器具有小于辐射束的最小衍射角的收集角。

2.如权利要求1所述的设备，其中具有预定直径的多个辐射束被准直以基本上彼此平行地传播。

3.如权利要求1或2所述的设备，其中多个辐射束的预定直径小于1000微米。

4.如前述权利要求中任一项所述的设备，其中多个辐射束包括在给定方向上分离的三个或更多个辐射束。

5.如前述权利要求中任一项所述的设备，其中多个辐射束包括辐射束的二维阵列。

6.如前述权利要求中任一项所述的设备，其中成像检测器的位置与配置成保持图案形成装置的支撑结构相距100mm或更多。

7.如前述权利要求中任一项所述的设备，其中成像检测器配置成在任何给定时刻具有在小于1英寸的跨度上测量的操作区域。

8.如前述权利要求中任一项所述的设备，其中辐射源包括标准具，所述标准具配置成将辐射束转换为基本上彼此平行地传播的多个辐射束。

9.如前述权利要求中任一项所述的设备，其中辐射源是多个辐射源中的一个并且成像检测器是多个成像检测器中的一个，其中所述设备还包括控制器，所述控制器配置成操作串联的每个辐射源和相关联的成像检测器。

10.如权利要求1至7中任一项所述的设备，其中辐射源是多个辐射源中一个并且所述设备还包括控制器，所述控制器配置成操作串联的每个辐射源并且接收来自串联的成像检测器的选定部分的检测到的辐射信号。

11.一种光刻设备，包括如权利要求1至10中任一项所述的图案形成装置变形监测设备。

12.如权利要求11所述的光刻设备，还包括下列部件中的一个或更多个：

照射系统，配置成调节辐射束，

支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束，

衬底台，构造成保持衬底，和

投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。

13.如权利要求12所述的光刻设备，其中支撑结构支撑图案形成装置，并且其中辐射束的预定直径不大于在光刻图案形成装置上存在的最大周期结构的节距的十倍。

14.一种光刻图案形成装置变形监测设备，包括：

辐射源，配置成将具有预定直径的多个辐射束朝向光刻图案形成装置引导使得它们被光刻图案形成装置反射；

成像检测器，配置成在多个辐射束被光刻图案形成装置反射之后检测多个辐射束的空间位置，和

处理器，配置成监测多个辐射束的空间位置并由此判定光刻图案形成装置变形的存在，

其中成像检测器具有小于或等于+/-5度的收集角。

15.一种确定图案形成装置是否遭受变形的方法，所述方法包括：

将多个辐射束朝向光刻图案形成装置引导使得它们被图案形成装置反射；

在多个辐射束被光刻图案形成装置反射之后使用成像检测器检测多个辐射束的空间位置；和

监测多个辐射束的空间位置并由此判定图案形成装置变形的存在，

其中，成像检测器具有小于辐射束的最小衍射角的收集角。

16.一种用以监测图案形成装置的变形的变形监测设备，所述图案形成装置是光刻图案形成装置，所述设备包括：

辐射源，配置成将具有预定直径的多个辐射束朝向光刻图案形成装置引导使得通过图案形成装置的反射来提供对应的多个反射辐射束；

成像检测器，配置成检测多个反射辐射束的空间位置；和

处理器，配置成监测多个反射辐射束的空间位置并由此判定图案形成装置变形的存在，

其中成像检测器具有收集角，所述收集角小于与被朝向图案形成装置引导的多个辐射束中的至少一个相关联的被图案形成装置衍射的衍射辐射束的最小衍射角。