[发明专利]印版及制备所述印版的方法有效
申请号: | 201280042104.8 | 申请日: | 2012-09-03 |
公开(公告)号: | CN103764402A | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | 黄智泳;朴济燮;黄仁皙;李承宪 | 申请(专利权)人: | LG化学株式会社 |
主分类号: | B41N1/08 | 分类号: | B41N1/08;B41N10/00 |
代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 朱梅;严彩霞 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种印版和制备该印版的方法。根据本发明的印版为包括沟槽图案的印版。所述沟槽图案具有形成有彼此不相交的线性图案的区域。所述形成有线性图案的区域是一方形区域,其中形成了至少两条线,每条线均具有一线性图案。另外,形成线性图案的区域还包含一区域,在该区域中线性图案的线宽度(W)及深度(D)、方形区域中未形成线性图案的区域的比率(R)以及用以形成对应于所述线性图案的图案的掩膜图案的开口线宽度(W0)满足特定的关系式。根据本发明的印版可防止转移到印版上的墨水接触底部。 | ||
搜索关键词: | 制备 述印版 方法 | ||
【主权项】:
一种印版,其包括:沟槽图案,其中所述沟槽图案包括由彼此不相交的线性图案组成的区域,且所述由线性图案组成的区域是在所述区域中包含线性图案的两条或更多条线的方形区域,且所述由线性图案组成的区域包含一区域,在该区域中线性图案的线宽度(W)及深度(D)、以及在方形区域中不包含线性图案的区域的比率(R)与用以形成对应于所述线性图案的图案的掩膜图案的开口线宽度(W0)满足下列关系式1和2:[关系式1]W=2D+W0+X[关系式2]D≥42.9exp(‑R/0.35)‑1.5其中,X为常数,D、W、W0和X是以微米为单位的值,以及R为大于0且小于1的值。
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