[发明专利]封口机构和具有这种机构的分配器有效

专利信息
申请号: 201280041838.4 申请日: 2012-07-11
公开(公告)号: CN103764515A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: F·佩里尼翁;C·皮埃尔 申请(专利权)人: 阿普塔尔法国简易股份公司
主分类号: B65D75/58 分类号: B65D75/58
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李丽
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 封口机构(C),用于安装在流体制品容器的两个层片之间,所述机构(C)具有:基体(1),其限定前表面、后表面(1b)、内侧边(1c)和外侧边(1d),所述基体(1)形成流体制品分配孔(11),分配孔从后表面到前表面贯穿基体;封闭盖(2),用于在前表面上密封基体(1)的分配孔(11),盖(2)由铰接件(22)整体地连接于基体(1),其特征在于:前表面和后表面(1b)限定分别用于容器的两个层片的前熔接区和后熔接区(15);后表面(1b)限定流体制品供给导道(10),导道沿其长度敞开并从分配孔(11)延伸直至基体(1)的内侧边(1c)。
搜索关键词: 封口 机构 具有 这种 分配器
【主权项】:
封口机构(C),所述封口机构用于密封于流体制品容器(R)的两个层片(F1,F2)之间,所述封口机构(C)具有:‑基体(1),所述基体限定前表面(1a)、后表面(1b)、内侧边(1c)和外侧边(1d),所述基体(1)形成流体制品分配孔(11),所述流体制品分配孔从所述后表面(1b)到所述前表面(1a)贯穿所述基体,所述前表面(1a)和后表面(1b)限定分别用于所述流体制品容器(R)的两个层片(F1,F2)的前熔接区(14)和后熔接区(15),所述前表面(1a)在所述流体制品分配孔(11)处限定流体制品收集区(12),所述后表面(1b)限定流体制品供给导道(10),所述流体制品供给导道沿其长度敞开并从所述流体制品分配孔(11)延伸直至所述基体(1)的内侧边(1c),和‑封闭盖(2),所述封闭盖用于在所述前表面(1a)上封闭所述基体(1)的流体制品分配孔(11),所述封闭盖(2)通过铰接件(22)以整体的方式连接于所述基体(1),其特征在于,‑所述基体(1)限定渐尖细形的侧棱部(1e),所述前熔接区(14)和后熔接区(15)在所述侧棱部处毗邻,以及‑所述前表面(1a)和后表面(1b)呈鼓凸形,以限定所述基体的最大厚度,所述流体制品收集区(12)的一部分、所述流体制品分配孔(11)和所述流体制品供给导道(10)在所述最大厚度处形成。
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