[发明专利]量测方法和设备以及器件制造方法

摘要

一种目标结构，包括一个或更多个周期性结构，由光刻过程形成在衬底上。目标结构的图像在以照射束照射目标结构时被检测，该图像使用非零级衍射辐射的第一部分而排除零级衍射辐射而形成。从图像中的至少一个感兴趣的区域提取的强度值用于确定周期性结构的性质，例如不对称度或重叠。为了定位感兴趣的区域，处理单元识别在目标结构的图像中的多个边界特征的位置。在每个方向上的边界特征的数量是目标结构中的周期性结构的边界的数量的至少两倍。定位感兴趣的区域的精度大于通过仅仅识别周期性结构的边界的精度。边界特征可以通过在周期性结构的边界区域中提供阻隔物来形成。感兴趣的区域可以同时沿X方向和Y方向定位，且同时在X方向和Y方向上被衍射。

主权项

一种用于测量由光刻过程在衬底上形成的一个或更多个周期性结构的性质的方法，所述方法包括步骤：(a)使用光刻过程在衬底上形成目标结构，所述目标结构包括在衬底上的一个或更多个周期性结构；(b)在以辐射束照射目标结构的同时形成和检测目标结构的至少一个图像，所述图像使用非零级衍射辐射的第一部分而排除第零级衍射辐射来形成；(c)使用从在目标结构的图像内的至少一个感兴趣的区域提取的强度值来确定周期性结构中的相应的一个周期性结构的性质，其中，为了执行步骤(c)，通过识别在目标结构的图像中多个边界特征的位置和根据所识别的位置特征来计算感兴趣的区域的位置，而在被检测的图像中辨别感兴趣的区域，且其中，在至少一个方向上，边界特征的数量是在目标结构内的周期性结构的边界的数量的至少两倍。