[发明专利]反射器装置和卤素加热系统有效

专利信息
申请号: 201280037484.6 申请日: 2012-05-29
公开(公告)号: CN103842716A 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 赖纳·高斯 申请(专利权)人: 萨姆帕洛特克有限公司
主分类号: F21V7/20 分类号: F21V7/20;F21V29/00;H05B3/00;H05B1/02
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种卤素辐射器加热系统的反射器装置,其包括多个并联组合的纵向延伸卤素辐射器,辐射借助于辐射器组一侧上的金属反射器反射到辐射器组的另一侧,其中反射器装置包括具有导向条的凹入的水冷却或气冷却反射载体和插入反射载体中并可更换的可更换反射元件,反射载体和可更换反射元件被这样设计,使得操作状态下通过可更换反射元件的加热和由导向条引起的膨胀和膨胀阻碍,与凹入的反射载体产生积极锁合和导热接触,由此将可更换反射元件的热量引入反射载体中,而在关闭状态下不产生积极锁合且可快速更换可更换反射元件。
搜索关键词: 反射 装置 卤素 加热 系统
【主权项】:
一种卤素辐射器加热系统的反射器装置,其包括多个并联组合的纵向延伸卤素辐射器,辐射借助于辐射器组一侧上的金属反射器反射到辐射器组的另一侧,其中反射器装置包括具有导向条的凹入的水冷却或气冷却反射载体和插入反射载体中并可更换的可更换反射元件,反射载体和可更换反射元件被这样设计,使得操作状态下通过可更换反射元件的加热和由导向条引起的膨胀和膨胀阻碍,与凹入的反射载体产生积极锁合和导热接触,由此将可更换反射元件的热量引入反射载体中,而在关闭状态下不产生积极锁合且可快速更换可更换反射元件。
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