[发明专利]具有用于提取电磁辐射的滤波器单元的光学测量系统有效
申请号: | 201280037200.3 | 申请日: | 2012-07-25 |
公开(公告)号: | CN103717996B | 公开(公告)日: | 2016-11-30 |
发明(设计)人: | J·辛德林;克努特·西尔克斯 | 申请(专利权)人: | 赫克斯冈技术中心 |
主分类号: | G01C1/02 | 分类号: | G01C1/02;G02B5/28 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 吕俊刚;刘久亮 |
地址: | 瑞士赫*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 本发明涉及一种用于确定多个点的坐标,更具体地说用于距离测量的光学测量系统,更具体地说,大地测量装置、坐标测量机或扫描装置。所述测量系统包括:辐射源(52、53),该辐射源用于发射具有发射波长的电磁辐射,和接收单元,该接收单元具有滤波器单元(51),该滤波器单元用于根据干涉原理来提取限定波长范围中的电磁辐射,和检测器(56),该检测器按可以借助于所述滤波器单元(51)提取的所述辐射可通过所述检测器(56)检测的这种方式来设置。而且,所述滤波器单元(51)包括至少两个镜部件,所述至少两个镜部件至少可部分反射并且按多层方式构造,其中,所述镜部件彼此大致平行取向,并且两个相邻镜部件在每一种情况下围绕腔,并且相对于彼此按特定距离设置,其中,根据所述腔的折射率并且根据所述镜部件之间的所述距离限定光学厚度。设置了用于改变所述光学厚度的光学厚度改变装置,以使改变所述滤波器单元(51)的可提取波长范围,更具体地说,其中所述光学厚度改变装置具有用于改变所述镜部件的位置的致动装置,和/或用于改变所述腔的折射率的折射率调节装置,更具体地说,其中,所述光学厚度在操作期间是连续可变的。 | ||
搜索关键词: | 具有 用于 提取 电磁辐射 滤波器 单元 光学 测量 系统 | ||
【主权项】:
一种用于确定多个点的坐标的光学测量系统,该光学测量系统包括:·辐射源(52、53、58),该辐射源用于发射具有发射波长(λ1、λ2、λ4、λLD、λLD1、λLD2)的电磁辐射,和·接收单元,该接收单元具有:□滤波器单元(51、57),该滤波器单元用于根据干涉原理来提取限定波长范围(22)中的电磁辐射,和□检测器(56、59),该检测器按能够借助于所述滤波器单元(51、57)提取的所述辐射能通过所述检测器(56、59)检测的这种方式来设置,其特征在于,所述滤波器单元(51、57)包括:·至少两个镜部件(31a、31b),所述至少两个镜部件是至少部分反射的并且按多层方式构造,其中,所述镜部件(31a、31b)彼此大致平行取向,并且两个相邻镜部件(31a、31b)在每一种情况下围绕腔(40),并且相对于彼此按特定距离(32)设置,其中,根据所述腔(40)的折射率并且根据所述镜部件(31a、31b)之间的所述距离(32)限定光学厚度,和·光学厚度改变装置,该光学厚度改变装置用于改变所述光学厚度,从而改变所述滤波器单元(51、57)的可提取波长范围(22)。
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