[发明专利]用于在双腔室气体放电激光系统中进行高准确度的气体重新充填的系统与方法

摘要

公开了用于在诸如准分子激光器之类的双腔室气体放电激光器的激光腔室内自动执行高准确度气体重新充填的系统与方法。基于由用户预先确定或输入的目标压力和卤素浓度，且没有任何进一步的用户动作，添加不含卤素的气体至腔室内达第一压力，紧接着添加包含卤素的气体至大于该腔室的目标压力的第二压力，从而在第二压力处该气体的卤素含量位于期望浓度。放出腔室内的气体直到压力降至目标压力。自动地估算所添加的不含卤素的气体的量，且测量含卤素的气体的量，以获得期望浓度，同时考虑温度和来自之前的激光器操作的剩余在充填管道内的任何气体。

主权项

一种双腔室气体放电激光器光源，包括：主振荡器，具有包括含卤素的激光介质气体的激光腔室；放大器，具有包括含卤素的激光介质气体的激光腔室；气体充填系统，包括自动执行重新充填方案的控制器，所述重新充填方案包括顺序的如下步骤：获得所选的一个激光腔室的目标压力和卤素的目标浓度；对所选的腔室排气至第一点，在所述第一点处所述腔室内的气体压力达到预定的低值，并测量在所述第一点处的温度和压力；将不包含卤素的气体量添加至所选的激光腔室以达到第二点，并测量在所述第二点处的温度和压力；将包含卤素的气体量添加至所选的激光腔室，以使所选的激光腔室内的气体在高于所述目标压力的压力处达到卤素的所述目标浓度；且将气体从所选的激光腔室内放出直到达到目标压力。