[发明专利]用于在双腔室气体放电激光系统中进行高准确度的气体重新充填的系统与方法

权利要求书

1.一种双腔室气体放电激光器光源，包括：

主振荡器，具有包括含卤素的激光介质气体的激光腔室；

放大器，具有包括含卤素的激光介质气体的激光腔室；

气体充填系统，包括自动执行重新充填方案的控制器，所述重新充填方案包括顺序的如下步骤：

获得所选的一个激光腔室的目标压力和卤素的目标浓度；

对所选的腔室排气至第一点，在所述第一点处所述腔室内的气体压力达到预定的低值，并测量在所述第一点处的温度和压力；

将不包含卤素的气体量添加至所选的激光腔室以达到第二点，并测量在所述第二点处的温度和压力；

将包含卤素的气体量添加至所选的激光腔室，以使所选的激光腔室内的气体在高于所述目标压力的压力处达到卤素的所述目标浓度；且

将气体从所选的激光腔室内放出直到达到目标压力。

2.根据权利要求1所述的双腔室气体放电激光器光源，其特征在于，所述卤素包括氟。

3.根据权利要求1所述的双腔室气体放电激光器光源，其特征在于，对所选的激光腔室排气以使每一个腔室内的气体压力达到预定的低值包括：对每一个腔室排气至约20kPa的压力。

4.根据权利要求1所述的双腔室气体放电激光器光源，其特征在于，添加至所选的激光腔室的不含卤素的气体量是至少部分地基于目标压力以及含卤素的气体内的卤素浓度与所述目标浓度的比较。

5.根据权利要求1所述的双腔室气体放电激光器光源，其特征在 于，所述主振荡器和放大器的激光腔室具有充填管道，用于将气体添加至所述激光腔室，且其中至少部分地基于在所述第一和第二点处的温度和压力、以及所选激光腔室的体积和所选激光腔室的充填管道的体积来计算添加至所选激光腔室的含卤素的气体量。

6.根据权利要求5所述的双腔室气体放电激光器光源，其特征在于，进一步部分地基于来自所述激光器的以前的操作的位于所选激光腔室内和所选激光腔室的充填管道内的剩余气体来计算添加至所选激光腔室的含卤素的气体量。

7.根据权利要求1所述的双腔室气体放电激光器光源，其特征在于，每一个激光腔室具有用于以第一速率将气体添加至所述腔室或从所述腔室移除气体的第一阀门、以及以低于所述第一速率的第二速率将气体添加至所述腔室或从所述腔室移除气体的第二阀门，且将气体从所选激光腔室放出直到达到所述目标压力包括：

打开所述第一阀门从所述激光腔室内移除第一量的气体，以使所述激光腔室内的压力大于所述目标压力；且

打开所述第二阀门从所述激光腔室内移除第二量的气体，从而将所述激光腔室内的压力减少至所述目标压力。

8.根据权利要求7所述的双腔室气体放电激光器光源，其特征在于，打开所述第一阀门来从所选激光腔室中移除第一量的气体还包括：打开所述第一阀门达固定量的时间。

9.根据权利要求1所述的双腔室气体放电激光器光源，其特征在于，每一个激光腔室具有用于以第一速率将气体添加至所述腔室或从所述腔室移除气体的第一阀门、以及以低于所述第一速率的第二速率将气体添加至所述腔室或从所述腔室移除气体的第二阀门，且将不包含卤素的气体量添加至所选激光腔室以达到第二点包括：

通过所述第二阀门来添加不包含卤素的气体量的第一部分；且

通过所述第一阀门来添加不包含卤素的气体量的剩余部分。

10.根据权利要求1所述的双腔室气体放电激光器光源，其特征在于，所述激光器光源是准分子激光源。

11.根据权利要求1所述的双腔室气体放电激光器光源，其特征在于，获得所选的一个激光腔室的目标压力和卤素浓度进一步包括：取回所述目标压力和浓度的所存储的值。

12.根据权利要求1所述的双腔室气体放电激光器光源，其特征在于，获得所选的一个激光腔室的目标压力和卤素浓度进一步包括：接收所述目标压力和浓度的选择作为输入。