[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备有效
申请号: | 201280026647.0 | 申请日: | 2012-05-28 |
公开(公告)号: | CN103562798B | 公开(公告)日: | 2016-10-12 |
发明(设计)人: | 高桥孝治;植松弘规;满居隆浩;川井康裕;西田孟;小川英纪 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G5/147 | 分类号: | G03G5/147;G03G21/00 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种难以产生图像缺失的电子照相感光构件,以及具有该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。为此,电子照相感光构件的表面包括多个凹部和除凹部以外的部分,各凹部具有深度为0.5至5μm和开口部最长径为20至80μm;当在电子照相感光构件的表面的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域时,500μm×500μm正方形区域中凹部的面积为10000至90000μm2,除凹部以外的部分中包含的平坦部的面积为80000至240000μm2。 | ||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 构件 处理 设备 | ||
【主权项】:
一种电子照相感光构件,其包括支承体和在所述支承体上形成的感光层,其特征在于所述电子照相感光构件的表面包括多个凹部和除所述凹部以外的部分,各所述凹部具有深度为0.5至5μm和开口部最长径为20至80μm,和当在所述电子照相感光构件的表面的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域时,所述500μm×500μm正方形区域中所述凹部的面积为10000至90000μm2,且除所述凹部以外的部分中包含的平坦部的面积为80000至240000μm2,所述深度为从第二基准面至凹部的最低点的距离;所述开口部最长径为在与开口部相交的线段中,最长线段的长度;所述开口部为沿着第二基准面的凹部的截面;所述第二基准面为位于距离基准面0.2μm下方的位置且平行于基准面的表面;所述基准面为将电子照相感光构件的截面轮廓校正以使曲线变为直线,并通过沿所述电子照相感光构件的长度方向延伸所获得的直线而获得的表面。
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