[发明专利]二氧化硅负载催化剂有效
| 申请号： | 201280019327.2 | 申请日： | 2012-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN103476491A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 远藤聪;加藤高明 | 申请（专利权）人： | 旭化成化学株式会社 |
| 主分类号： | B01J23/28 | 分类号： | B01J23/28;B01J23/31;B01J23/34;B01J27/057;C07C253/24;C07C255/08;C07B61/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种二氧化硅负载催化剂，其为在通过丙烷或异丁烷的气相催化氨氧化反应来制造对应的不饱和腈时使用的二氧化硅负载催化剂，其含有下述式（1）所示的金属氧化物：MoVaNbbXcTdZeOn…（1）（式（1）中，X表示选自Sb和Te中的至少1种以上的元素，T表示选自Ti、W、Mn和Bi中的至少1种以上的元素，Z表示选自La、Ce、Yb和Y中的至少1种以上的元素。a、b、c、d、e和n分别处于0.05≤a≤0.5、0.01≤b≤0.5、0.001≤c≤0.5、0≤d≤1、0≤e≤1的范围，n为满足化合价的平衡的值），所述二氧化硅负载催化剂的平均孔径为60～120nm，总孔容为0.15cm3/g以上，比表面积为5～25m2/g，并且由基于X射线衍射的（001）峰的半值宽度求出的微晶尺寸为40～250nm。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 负载 催化剂 | ||
【主权项】：
一种二氧化硅负载催化剂，其为在通过丙烷或异丁烷的气相催化氨氧化反应来制造对应的不饱和腈时使用的二氧化硅负载催化剂，其含有下述式（1）所示的金属氧化物：MoVaNbbXcTdZeOn…（1）式（1）中，X表示选自Sb和Te中的至少1种以上的元素，T表示选自Ti、W、Mn和Bi中的至少1种以上的元素，Z表示选自La、Ce、Yb和Y中的至少1种以上的元素；a、b、c、d和e分别处于0.05≤a≤0.5、0.01≤b≤0.5、0.001≤c≤0.5、0≤d≤1、0≤e≤1的范围，n为满足化合价的平衡的值，所述二氧化硅负载催化剂的平均孔径为60～120nm，总孔容为0.15cm3/g以上，比表面积为5～25m2/g，并且由基于X射线衍射的（001）峰的半值宽度求出的微晶尺寸为40～250nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭化成化学株式会社，未经旭化成化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280019327.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
