[发明专利]FAK抑制剂

摘要

一种用作FAK抑制剂的式(I)化合物，其中R¹或R²是环胺基团并且R⁵是具有包含取代基的羰基的芳族基团。

主权项

1.一种式(I)的化合物：其中：R¹选自：H和其中：R^N1选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R^N2选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R^N3选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R^N4选自H和CH₃；R^N7和R^N8独立地选自H和CH₃；R^N9选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R^N10选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R^N11选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R²选自H和其中：R^N5选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R^N6选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；并且其中R¹和R²中仅一个是H；或R¹和R²一起形成基团–CH₂-N(R^N12)-C₂H₄-，其中R^N12选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R⁴选自CF₃、卤素、CF₂H和CN；以及R⁵选自下式的组：其中：R⁶选自H、(CHR^C1)_n1C(O)N(R^N6)Z¹和(CH₂)_n2C(O)OZ²；其中：n1是1；R^C1是H或Me；R^N12是H或CH₃；Z¹是H、CH₃或OCH₃；n2是1；并且Z²是CH₃；并且其中R^N12和Z¹中仅一个可以是CH₃，R⁷，如果存在的话，选自H、和(CH₂)_m1C(O)N(R^M1)Y¹，其中：m1是0或1；R^M1是H；并且Y¹是H、Me或OCH₃；并且R⁶和R⁷之一不是H；并且R⁸，如果存在的话，是H，或当R⁷是C(=O)NH₂时，R⁸选自H和C_1-2烷基。