[发明专利]FAK抑制剂

权利要求书

1.一种式(I)的化合物：

其中：

R¹选自：H和

其中：

R^N1选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R^N2选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R^N3选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R^N4选自H和CH₃；

R^N7和R^N8独立地选自H和CH₃；

R^N9选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R^N10选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R^N11选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R²选自H和

其中：

R^N5选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R^N6选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

并且其中R¹和R²中仅一个是H；

或R¹和R²一起形成基团–CH₂-N(R^N12)-C₂H₄-，其中R^N12选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；

R⁴选自CF₃、卤素、CF₂H和CN；以及

R⁵选自下式的组：

其中：

R⁶选自H、(CHR^C1)_n1C(O)N(R^N6)Z¹和(CH₂)_n2C(O)OZ²；其中：

n1是1；

R^C1是H或Me；

R^N12是H或CH₃；

Z¹是H、CH₃或OCH₃；

n2是1；并且

Z²是CH₃；

并且其中R^N12和Z¹中仅一个可以是CH₃，

R⁷，如果存在的话，选自H、和(CH₂)_m1C(O)N(R^M1)Y¹，其中：

m1是0或1；

R^M1是H；并且

Y¹是H、Me或OCH₃；

并且R⁶和R⁷之一不是H；并且

R⁸，如果存在的话，是H，或当R⁷是C(=O)NH₂时，R⁸选自H和C_1-2烷基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中，R²是H并且R¹是：

其中R^N1是C(=O)Me。

3.根据权利要求1所述的化合物，其中，R²是H并且R¹是：

其中R^N1是H、甲基或乙基。