[发明专利]光刻术中辐射束斑的位置测量有效
| 申请号： | 201280013046.6 | 申请日： | 2012-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN103430101A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | F·皮特斯;J·本斯乔普;M·瑞肯斯;G·范巴斯;J·德克尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于光刻设备的辐射斑测量系统，所述系统具有目标(40)，光刻设备的辐射系统可以将辐射斑投影在目标上用于测量过程，所述目标具有测量目标(42)。所述系统还包括用以检测来自多个斑之一的辐射的辐射检测器(41)和用以接收来自辐射检测器的信号并确定辐射斑相对于辐射斑期望位置的位置的控制器(46)。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 辐射 位置 测量 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：可编程图案形成装置，配置成提供多个辐射束；投影系统，配置成将多个辐射束投影到衬底上以形成各自的辐射斑；和辐射斑测量系统，包括：目标，辐射斑能够被投影到目标上用于斑测量过程，所述目标包括测量目标；辐射检测器，配置成检测来自已经被投影到测量目标上的辐射斑中的一个的辐射；和控制器，配置成接收来自辐射检测器的信息，并且基于所述信息至少确定辐射斑在目标上在基本上平行于目标的上表面的平面内相对于辐射斑的期望位置的位置。
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