[发明专利]用于抗反射涂层的聚硅烷硅氧烷树脂无效

专利信息
申请号: 201280012557.6 申请日: 2012-03-08
公开(公告)号: CN103517956A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 萧冰·周;埃里克·S·莫耶 申请(专利权)人: 道康宁公司
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;C08G77/48
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 高瑜;郑霞
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了聚硅烷硅氧烷共聚物或树脂及其制备方法。本发明还提供了将所述聚硅烷硅氧烷共聚物施加到基材上形成用于光刻法(193nm)的聚硅烷硅氧烷膜的方法。所述聚硅烷硅氧烷膜符合用于抗反射涂层(ARC)应用所期望或需要的所述基本性能标准。
搜索关键词: 用于 反射 涂层 硅烷 硅氧烷 树脂
【主权项】:
一种用于形成抗反射涂层的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂,所述聚硅烷硅氧烷共聚物树脂包含:通过RSiOa(OH)b(OR’)c单元定义的第一组分,其中下标a、b和c为大于或等于0的数,使得(2a+b+c)=3;其中R为有机吸光基团并且R’为烷基;和通过Si5Ox(OH)y(OR’’)z单元定义的第二组分,其中下标x、y和z为大于或等于0的数,使得(2x+y+z)=12;其中R”为烷基。
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