[实用新型]光罩定位结构及光罩盒有效
申请号: | 201220674128.2 | 申请日: | 2012-12-07 |
公开(公告)号: | CN202956584U | 公开(公告)日: | 2013-05-29 |
发明(设计)人: | 王猛 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;G03F7/20;H01L21/00;H01L21/68 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种光罩定位结构,用于防止位于光罩盒内的光罩发生位移,包括三个以上受压变形后能够挤压光罩侧壁的弹性定位件,所述三个以上弹性定位件环绕设置于所述光罩的四周。本实用新型还公开了一种光罩盒,包括由底板和侧板围成的一端具有开口的盒体、用于封住所述开口的封盖、以及用于支撑光罩的光罩支撑架,所述光罩盒还包括如上所述的光罩定位结构,所述弹性定位件放松状态时的高度大于所述封盖封住所述开口时封盖的内表面至所述底板的内表面之间的距离。通过采用三个以上受压后能够向侧向变形的弹性定位件,能够稳固地夹持住光罩的侧壁,达到光罩精确定位的目的,避免了光罩出现滑动和震动现象,无摩擦现象,避免产生微尘。 | ||
搜索关键词: | 定位 结构 光罩盒 | ||
【主权项】:
一种光罩定位结构,用于防止位于光罩盒内的光罩发生位移,其特征在于:包括三个以上受压变形后能够挤压光罩侧壁的弹性定位件,所述三个以上弹性定位件环绕设置于所述光罩的四周。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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