[实用新型]扫描阴极及扫描溅射设备有效
| 申请号： | 201220547040.4 | 申请日： | 2012-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN202865324U | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 范振华;刘国利 | 申请（专利权）人： | 东莞宏威数码机械有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 张艳美;郝传鑫 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市南城*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种扫描阴极，设于真空腔体上并对真空腔体内的靶材进行磁控扫描，其中，本实用新型的扫描阴极包括位于真空腔体外的磁性部件及驱动器，磁性部件与靶材相对应，驱动器驱使磁性部件在真空腔体外做平面的活动而对靶材进行平面的磁性扫描。本实用新型的扫描阴极能提高靶材刻蚀区域的面积以提高靶材的利用率而降低镀膜成本。另，本实用新型还公开一种扫描溅射设备。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 阴极 溅射 设备 | ||
【主权项】：
一种扫描阴极，设于真空腔体上并对真空腔体内的靶材进行磁控扫描，其特征在于，所述扫描阴极包括位于所述真空腔体外的磁性部件及驱动器，所述磁性部件与所述靶材相对应，所述驱动器驱使所述磁性部件在所述真空腔体外做平面的活动而对所述靶材进行平面的磁性扫描。
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