[实用新型]一种掩膜板有效
| 申请号： | 201220457411.X | 申请日： | 2012-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN202735675U | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 彭川;隆清德 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例提供一种掩膜板，涉及显示装置制造领域，可以改善光线的准直角度，抑制或消除光线通过掩膜板图形开口后的衍射曝光范围。包括：光栅层，所述光栅层具有至少一个图形开口区域，还包括：覆盖所述图形开口区域的柱状透镜；所述柱状透镜的一侧为圆拱，另一侧面向所述光栅层，所述圆拱的圆心指向所述光栅层，且其跨度大于等于所述图形开口区域的宽度。本实用新型实施例用于制造掩膜板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，包括：光栅层，所述光栅层具有至少一个图形开口区域，其特征在于，还包括：覆盖所述图形开口区域的柱状透镜；所述柱状透镜的一侧为圆拱，另一侧面向所述光栅层，所述圆拱的圆心指向所述光栅层，且其跨度大于等于所述图形开口区域的宽度。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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