[实用新型]一种同时吸取双片的真空吸笔有效

专利信息
申请号: 201220314652.9 申请日: 2012-06-28
公开(公告)号: CN202662584U 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 金重玄;戴明;吴洪联;夏高生 申请(专利权)人: 杭州大和热磁电子有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 310053 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种同时吸取双片的真空吸笔,包括吸笔头、吸管和手柄,吸管与手柄一体结构,吸笔头呈块状结构,吸笔头的中心设有与吸管相吻合的吸管孔,吸笔头的厚度与存放硅片的石英舟内部间隙相同,在吸笔头的两侧面上分别对称设有结构相同的左吸盘腔和右吸盘腔,吸管孔的底部设有与吸管孔相互连通的左气道和右气道,左气道与左吸盘腔连通,右气道与右吸盘腔连通,本实用新型在不改变原真空吸笔的本体结构,只需更换吸笔头就可以实现双片取片,改装费用较低,取片效率提升一倍,而且吸笔头的端部增加了较长的楔形导向部,在快速作业时可以防止因真空吸笔插偏导致碰碎硅片的情况发生,安全系数较高。
搜索关键词: 一种 同时 吸取 真空
【主权项】:
一种同时吸取双片的真空吸笔,包括吸笔头(1)、吸管(2)和手柄(3),所述吸管与手柄一体结构,所述吸笔头呈块状结构,在吸笔头的一侧面上设有内陷的吸盘腔,吸笔头的中心设有与吸管相吻合的吸管孔(4),吸管孔的底部设有与吸管孔连通的气孔,所述气孔与所述吸盘腔连通,其特征在于:所述吸笔头的厚度与存放硅片(5)的石英舟内部间隙相同,在吸笔头的两侧面上分别对称设有结构相同的左吸盘腔(6)和右吸盘腔(7),所述吸管孔的底部设有与吸管孔相互连通的左气道(8)和右气道(9),所述左气道与所述左吸盘腔连通,所述右气道与所述的右吸盘腔连通。
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