[实用新型]一种光刻曝光机的多灯光源系统有效
| 申请号： | 201220167128.3 | 申请日： | 2012-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN202583695U | 公开（公告）日： | 2012-12-05 |
| 发明（设计）人： | 王政;沈立;周予滨;周全;周力;张梦杰;汤吉;陈川 | 申请（专利权）人： | 无锡欧米光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F21V21/108;F21V19/00 |
| 代理公司： | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人： | 黄振华 |
| 地址： | 214214 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 发明公开了一种光刻曝光机的多灯光源系统，包括支架，阵列排布在支架上的一组超高压汞灯。其中，所述支架为反碗状支架。其中，所述一组超高压汞灯至少为4个。其中，其特征是，所述超高压汞灯的轴线汇聚于支架的球心处，形成单灯的照射效果。本实用新型公开的光刻曝光机的多灯光源系统，结构简单，成本低廉，维修方便，能够调节光强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 曝光 灯光 系统 | ||
【主权项】：
一种光刻曝光机的多灯光源系统，其特征是，包括支架（1），阵列排布在支架（1）上的一组超高压汞灯（2）。
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