[实用新型]一种光刻曝光机的多灯光源系统

说明书

技术领域

    本发明涉及一种光源系统，特别是一种光刻曝光机的多灯光源系统。

背景技术

照明系统是平行光刻曝光机的的关键部件之一，在曝光能量源的选择上，其他公司都是采用单灯光源。单灯价格较昂贵，一旦发生故障，维修费用较高。此外，单灯系统发光强度不可调节，而且随着使用时间的增加，光强明显衰弱。因此，单灯系统有效寿命短，使用成本较高。

发明内容

发明目的：针对现有技术的不足，本发明公开了一种维修简单，可调节光强的成本低廉的多灯光源系统。

技术方案：本发明公开了一种光刻曝光机的多灯光源系统，包括支架，阵列排布在支架上的一组超高压汞灯。

其中，所述支架为反碗状支架。

其中，所述一组超高压汞灯至少为4个。

其中，其特征是，所述超高压汞灯的轴线汇聚于支架的球心处，形成单灯的照射效果。

所述超高压汞灯采用的都是江苏森莱浦光电科技有限公司生产的P20型超超高压汞灯，其灯杯为抛物线反射面，理论上可将大部分光线平行投射到前方。

当发现灯泡光强衰减至出厂值的60%-80%时，电路监控发现情况，此时可以启动未使用的灯泡补偿能量损失而不影响整个光源系统工作。

与单灯系统相比，能大大提高光源的使用寿命，降低成本。此外，多灯系统还能够通过控制点亮灯的数量来调节总体光强。这一优点是单灯系统无法实现的。

光刻曝光机的多灯光源系统的核心技术是将若干超超高压汞灯成矩阵分列在球面上，各灯的轴线汇聚于球心，形成单灯的照射效果。

有益效果：本发明公开的光刻曝光机的多灯光源系统，结构简单，成本低廉，维修方便，能够调节光强。

附图说明

附图1为多灯光源系统的结构示意图；

附图2为超高压汞灯的结构示意图；

附图3为支架的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步的解释。

本发明公开了一种光刻曝光机的多灯光源系统，包括支架1，阵列排布在支架1上的一组超高压汞灯2。

其中，所述支架1为反碗状支架。

其中，所述一组超高压汞灯2至少为4个。

其中，其特征是，所述超高压汞灯2的轴线汇聚于支架1的球心处，形成单灯的照射效果。

所述超高压汞灯采用的都是江苏森莱浦光电科技有限公司生产的P20型超超高压汞灯，其灯杯为抛物线反射面，理论上可将大部分光线平行投射到前方。

当发现灯泡光强衰减至出厂值的60%-80%时，电路监控发现情况，此时可以启动未使用的灯泡补偿能量损失而不影响整个光源系统工作。

与单灯系统相比，能大大提高光源的使用寿命，降低成本。此外，多灯系统还能够通过控制点亮灯的数量来调节总体光强。这一优点是单灯系统无法实现的。

光刻曝光机的多灯光源系统的核心技术是将若干超超高压汞灯成矩阵分列在球面上，各灯的轴线汇聚于球心，形成单灯的照射效果。

本发明提供了一种光刻曝光机的多灯光源系统的思路及方法，具体实现该技术方案的方法和途径很多，以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围，本实施例中未明确的各组成部分均可用现有技术加以实现。