[实用新型]一种通过对高斯光斑检测定位的均匀光刻系统

摘要

本实用新型涉及一种通过对高斯光斑采用电CCD检测、移相定位的均匀光刻系统。其特征在于在激光干涉光刻中，通过CCD检测两束共轭激光干涉条纹，使平台对其定位，并实时反馈控制一个移相定位系统使光路光程发生精确改变，实现对干涉图形的相位移动及定位。在本系统中，移相定位系统由电压源、位移驱动器和反射镜组成。通过将激光分出两束共轭光干涉于CCD上测出条纹周期，使平台移动N个周期，并控制移相定位系统对平台的运行误差进行补偿。系统将平台的位置误差反馈给芯片，经过运算后给位移驱动器施加不同的电压，使反射镜沿着它的轴向方向相应移动，实现条纹周期的重叠从而达到均匀光刻的需要。

主权项

一种通过对高斯光斑检测定位的均匀光刻系统，其特征在于：系统包括激光干涉及检测模块[25]、微位移模块[24]、信号处理模块[17]、结果显示模块[18]、带有悬臂梁的二维位移平台[16]和基底[15]；激光干涉及检测模块[25]固定于二维位移平台[16]的悬臂梁上，所述微位移模块[24]一端与PZT[10]连接，另一端与信号处理模块[17]连接；所述信号处理模块[17]的一端与激光干涉及检测模块[25]连接获取光斑干涉条纹图，同时还与二维位移平台[16]自带的位移检测模块连接获得平台移动误差；信号处理模块[17]的另一端与结果显示模块[18]连接向其传输信号处理结果；基底[15]固定于二维位移平台[16]之上。