[实用新型]一种通过对高斯光斑检测定位的均匀光刻系统

权利要求书

1.一种通过对高斯光斑检测定位的均匀光刻系统，其特征在于：系统包括激光干涉及检测模块[25]、微位移模块[24]、信号处理模块[17]、结果显示模块[18]、带有悬臂梁的二维位移平台[16]和基底[15]；激光干涉及检测模块[25]固定于二维位移平台[16]的悬臂梁上，所述微位移模块[24]一端与PZT[10]连接，另一端与信号处理模块[17]连接；所述信号处理模块[17]的一端与激光干涉及检测模块[25]连接获取光斑干涉条纹图，同时还与二维位移平台[16]自带的位移检测模块连接获得平台移动误差；信号处理模块[17]的另一端与结果显示模块[18]连接向其传输信号处理结果；基底[15]固定于二维位移平台[16]之上。

2.根据权利要求1所述的一种通过对高斯光斑检测定位的均匀光刻系统，其特征在于：激光干涉及检测模块[25]由激光器[1]、光束整形模块[23]、分束模块[6、13、14]、反射镜[4、5、7、8、9、11、12]、光斑检测模块[19]组成；所述各个模块均位于同一垂直面上，其中光束整形模块[23]位于激光器[1]正前方，所述分束模块[13]将一束入射激光分成两束，其中一束照射于基底[15]的表面，另一束照射在光斑检测模块[19]上，分束模块[14]将打在其上的另一束入射激光分成两束，其中一束照射于基底[15]的表面，另一束照射在光斑检测模块[19]上，照射于基底[15]表面的两束光互相干涉，照射于光斑检测模块[19]上的两束光互相干涉；所述光斑检测模块[19]包括扩束镜[20]和CCD[21]，扩束镜[20]位于CCD[21]之前；所述光束整形模块[23]包括光束调节模块[2]和扩束准直模块[3]，两者与激光同轴，激光通过光束整形模块[23]进行扩束准直与滤波。

3.根据权利要求1所述的一种通过对高斯光斑检测定位的均匀光刻系统，其特征在于：微位移模块[24]由位移驱动模块[22]、PZT[10]和反射镜[11]组成，所述位移驱动模块[22]一端与信号处理模块[17]连接，另一端与PZT[10]连接，所述反射镜[11]固定于PZT[10]之上。