[发明专利]一种抛光垫清洗液及其使用方法有效
| 申请号： | 201210592020.3 | 申请日： | 2012-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN103074175A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 陈高攀;潘国顺;顾忠华;龚桦;邹春莉 | 申请（专利权）人： | 深圳市力合材料有限公司;清华大学;深圳清华大学研究院 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;C11D3/60;C11D3/075;C11D3/37;C11D3/20;C11D3/04;C11D3/10;C11D3/30;B08B7/04;B08B3/08 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 518108 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抛光垫清洗液及其使用方法，属于硅晶片抛光垫清洗技术领域。本发明的清洗液包括聚氧乙烯醚非离子表面活性剂、清洗助剂、结块防止剂、增溶剂、润湿剂和PH调节剂，所述清洗液的pH值为8.0～10.0。在循环抛光过程中，抛光之后将本发明的抛光垫清洗液稀释20～40倍，在0.02MPa的压强下使用1～3L/min清洗液刷洗1～2min，然后以5L/min（最大流量）的流量用去离子水刷洗1min。采用本发明的清洗液及清洗方法可以有效的去除循环抛光中累积在抛光垫上的残留污垢及离子残留，增加抛光垫的保湿性，延长抛光垫的使用寿命。本发明的清洗液可以循环使用，价格便宜、成本低，在用于清洗中具有工艺简单、可控等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 清洗 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种抛光垫清洗液，其特征在于，该清洗液包括聚氧乙烯醚非离子表面活性剂、清洗助剂、结块防止剂、增溶剂、润湿剂和PH调节剂，所述清洗液的pH值为8.0～10.0。
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