[发明专利]一种扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法在审
申请号: | 201210550336.6 | 申请日: | 2012-12-18 |
公开(公告)号: | CN103868766A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 杨海方;顾长志;金爱子 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 梁爱荣 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法。所述方法包括:将硅片清洗、并在硅片上涂覆电子束抗蚀剂、烘烤;对烘烤后的样品进行电子束曝光、显影、定影、干燥得到抗蚀剂图形;将具有抗蚀剂图形的样品镀膜;将镀膜后样品利用丙酮进行剥离,最终得到扫描电镜测长用长度标准样品。本发明制备的长度标准样品为硅衬底上的金属栅格,由于两种材料之间的差异,从而大大提高了标准样品在扫描电镜中的成像对比度,提高了样品的测量精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 扫描电镜 测长用 长度 标准 样品 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法,其特征在于包括:步骤S1:对要制备图形的硅衬底样品进行清洗,然后对清洗干净的硅衬底样品进行烘烤处理以去除基片表面的水分;烘烤选择在120℃‑150℃的热板上烘烤10分钟‑30分钟;步骤S2:将步骤S1清洗好的硅衬底样品放入涂胶机里,采用旋涂的方式对清洗好的硅衬底样品进行电子束抗蚀剂的涂覆,根据厚度的需要选择不同的旋涂速度,电子束抗蚀剂的厚度大于将来沉积金属厚度的两倍,旋涂结束后,利用热板或烘箱对涂覆电子束抗蚀剂的硅衬底样品进行烘烤,得到涂覆电子束抗蚀剂的样品,烘烤的温度由电子束抗蚀剂的类型决定;步骤S3:利用电子束曝光设备对步骤S2的涂覆电子束抗蚀剂的硅衬底样品进行曝光,然后进行显影、定影,最后用干燥氮气将样品吹干得到具有电子束抗蚀剂图形的样品;步骤S4:将步骤S3得到具有电子束抗蚀剂图形的样品放到金属镀膜设备中进行镀膜,得到具有金属膜的样品;步骤S5:将步骤S4具有金属膜的样品用丙酮浸泡进行剥离,去除未曝光区域的抗蚀剂及其上面的金属,从而得到的扫描电镜测长用长度标准样品。
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