[发明专利]一种扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法

权利要求书

1.一种扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法，其特征在于包括：

步骤S1：对要制备图形的硅衬底样品进行清洗，然后对清洗干净的硅衬底样品进行烘烤处理以去除基片表面的水分；烘烤选择在120℃-150℃的热板上烘烤10分钟-30分钟；

步骤S2：将步骤S1清洗好的硅衬底样品放入涂胶机里，采用旋涂的方式对清洗好的硅衬底样品进行电子束抗蚀剂的涂覆，根据厚度的需要选择不同的旋涂速度，电子束抗蚀剂的厚度大于将来沉积金属厚度的两倍，旋涂结束后，利用热板或烘箱对涂覆电子束抗蚀剂的硅衬底样品进行烘烤，得到涂覆电子束抗蚀剂的样品，烘烤的温度由电子束抗蚀剂的类型决定；

步骤S3：利用电子束曝光设备对步骤S2的涂覆电子束抗蚀剂的硅衬底样品进行曝光，然后进行显影、定影，最后用干燥氮气将样品吹干得到具有电子束抗蚀剂图形的样品；

步骤S4：将步骤S3得到具有电子束抗蚀剂图形的样品放到金属镀膜设备中进行镀膜，得到具有金属膜的样品；

步骤S5：将步骤S4具有金属膜的样品用丙酮浸泡进行剥离，去除未曝光区域的抗蚀剂及其上面的金属，从而得到的扫描电镜测长用长度标准样品。

2.如权利要求1所述扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法，其特征在于，硅衬底样品的清洗是采用丙酮、酒精、超纯水三步超声清洗，每步各清洗3分钟～5分钟。

3.如权利要求1所述扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法，其特征在于，所述的电子束抗蚀剂采用正性电子束抗蚀剂。

4.如权利要求3所述扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法，其特征在于，所述的正性电子束抗蚀剂是PMMA正性电子束抗蚀剂、ZEP520正性电子束抗蚀剂中的一种。

5.如权利要求1所述扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法，其特征在于，所述沉积是采用金属镀膜设备。

6.如权利要求5所述扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法，其特征在于，所述金属镀膜设备是热蒸发镀膜设备或电子束蒸发镀膜设备。

7.如权利要求1所述扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法，其特征在于，所述沉积的材料是采用金属材料。

8.如权利要求7所述扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法，其特征在于，所述金属材料，为室温下稳定的金属Au、Pt、Pd材料。

9.如权利要求8所述扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法，其特征在于，为了增加所述金属材料的附着力采用Ti、Cr、Ni金属做过渡层。

10.如权利要求1所述扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法，其特征在于，还包括将镀好金属膜的样品放入超声设备中，同时进行超声工艺处理，使未曝光区域的金属膜随电子束抗蚀剂快速、完全的脱落，也包括将丙酮溶液加温至60℃左右，以加快剥离速度得到好的剥离结果。