[发明专利]滚珠平衡器

摘要

本发明公开了一种滚珠平衡器，该滚珠平衡器增加滚珠停留部分中的滚珠比率并限制由滚珠停留部分外的滚珠引起的不平衡的加剧。当旋转装置的转速小于第一转速时，滚珠停留部分允许从滚动面移动的滚珠停留在其中并允许其中的滚珠接触滚珠停留部分外的释放滚珠以防止释放滚珠离开滚动面。防离开部分设置为接触滚珠停留部分外的释放滚珠以防止释放滚珠离开滚动面。当转速大于第一转速时，滚珠停留部分允许其中的滚珠通过施加到其上的离心力而离开并到达滚动面。

主权项

一种滚珠平衡器，安装到绕旋转轴可旋转的旋转装置，所述滚珠平衡器包括：环形沟槽构件，其中具有空白空间；以及多个滚珠，可移动地容纳在所述沟槽构件的所述空白空间中，其中所述沟槽构件的所述空白空间由绕所述旋转轴的圆管形式的内圆周壁和外圆周壁、以及使所述内圆周壁和所述外圆周壁的上端和下端彼此连接的环形底壁和顶壁限定，其中所述底壁的内表面由连接到所述内圆周壁的内圆周边缘部分以及使所述内圆周边缘部分和所述外圆周壁彼此连接的滚动面配置，其中所述底壁的所述内表面的所述内圆周边缘部分提供有多个滚珠停留部分和分别布置在所述多个滚珠停留部分之间的多个防离开部分，该多个滚珠停留部分沿所述沟槽构件的圆周方向相互间隔开预定距离，其中所述滚动面从所述底壁的所述内表面的所述内圆周边缘部分到所述外圆周壁向上倾斜，以在旋转装置的转速大于第二转速时允许所述滚珠通过施加到所述滚珠的离心力而移动到所述外圆周壁，其中第二转速小于导致主共振的第一转速，其中当所述旋转装置的转速小于所述第一转速时，每个所述滚珠停留部分配置为允许从所述滚动面移动到所述滚珠停留部分的所述滚珠之一停留在所述滚珠停留部分中并允许在所述滚珠停留部分中的所述停留滚珠接触所述滚珠停留部分外部的滚珠中的一个释放滚珠，以防止所述释放滚珠离开所述滚动面，并且在所述旋转装置的转速大于所述第一转速时，每个所述滚珠停留部分还配置为允许所述滚珠停留部分中的所述停留滚珠通过施加到所述停留滚珠的离心力而离开并到达所述滚动面，以及其中所述多个防离开部分中的每个配置为在所述旋转装置的转速小于所述第一转速时，接触所述滚珠停留部分外部的所述释放滚珠，以防止所述释放滚珠离开所述滚动面。