[发明专利]滚珠平衡器有效
申请号: | 201210549937.5 | 申请日: | 2012-12-17 |
公开(公告)号: | CN103161053A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 嶌田吉成;大八木淳史 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | D06F37/00 | 分类号: | D06F37/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 屈玉华 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 滚珠 平衡器 | ||
1.一种滚珠平衡器,安装到绕旋转轴可旋转的旋转装置,所述滚珠平衡器包括:
环形沟槽构件,其中具有空白空间;以及
多个滚珠,可移动地容纳在所述沟槽构件的所述空白空间中,
其中所述沟槽构件的所述空白空间由绕所述旋转轴的圆管形式的内圆周壁和外圆周壁、以及使所述内圆周壁和所述外圆周壁的上端和下端彼此连接的环形底壁和顶壁限定,
其中所述底壁的内表面由连接到所述内圆周壁的内圆周边缘部分以及使所述内圆周边缘部分和所述外圆周壁彼此连接的滚动面配置,
其中所述底壁的所述内表面的所述内圆周边缘部分提供有多个滚珠停留部分和分别布置在所述多个滚珠停留部分之间的多个防离开部分,该多个滚珠停留部分沿所述沟槽构件的圆周方向相互间隔开预定距离,
其中所述滚动面从所述底壁的所述内表面的所述内圆周边缘部分到所述外圆周壁向上倾斜,以在旋转装置的转速大于第二转速时允许所述滚珠通过施加到所述滚珠的离心力而移动到所述外圆周壁,其中第二转速小于导致主共振的第一转速,
其中当所述旋转装置的转速小于所述第一转速时,每个所述滚珠停留部分配置为允许从所述滚动面移动到所述滚珠停留部分的所述滚珠之一停留在所述滚珠停留部分中并允许在所述滚珠停留部分中的所述停留滚珠接触所述滚珠停留部分外部的滚珠中的一个释放滚珠,以防止所述释放滚珠离开所述滚动面,并且在所述旋转装置的转速大于所述第一转速时,每个所述滚珠停留部分还配置为允许所述滚珠停留部分中的所述停留滚珠通过施加到所述停留滚珠的离心力而离开并到达所述滚动面,以及
其中所述多个防离开部分中的每个配置为在所述旋转装置的转速小于所述第一转速时,接触所述滚珠停留部分外部的所述释放滚珠,以防止所述释放滚珠离开所述滚动面。
2.根据权利要求1所述的滚珠平衡器,其中所述多个滚珠停留部分分别通过多个凹槽配置。
3.根据权利要求2所述的滚珠平衡器,
其中所述多个凹槽的每个的径向外侧表面从所述凹槽的所述底部到所述滚动面的内圆周边缘以比所述滚动面陡峭的角度向上倾斜,以在所述旋转装置的转速大于所述第一转速时通过施加到所述滚珠的离心力而允许所述凹槽中的滚珠在所述凹槽的所述径向外侧表面上移动并离开且到达所述滚动面,以及
其中所述多个凹槽的每个的深度被确定为确保所述凹槽外部的所述释放滚珠既接触所述滚动面又接触所述凹槽中的所述停留滚珠。
4.根据权利要求3所述的滚珠平衡器,其中所述多个凹槽的每个的所述深度被确定为确保所述凹槽中的所述停留滚珠的上端从所述凹槽突出以及在所述凹槽外部的所述释放滚珠在高于所述凹槽的上端的位置处接触所述停留滚珠。
5.根据权利要求4所述的滚珠平衡器,其中所述多个防离开部分分别通过多个突起配置。
6.根据权利要求5所述的滚珠平衡器,其中所述多个突起的每个配置为允许所述释放滚珠既接触所述滚动面又接触所述突起的径向外侧表面。
7.根据权利要求6所述的滚珠平衡器,其中从所述滚动面的所述内圆周边缘到所述多个突起的每个的所述径向外侧表面的径向距离小于所述滚珠的半径。
8.根据权利要求6或7所述的滚珠平衡器,其中所述多个突起的每个配置为允许所述释放滚珠接触所述突起的所述径向外侧表面的除了其边缘之外的一部分。
9.根据权利要求8所述的滚珠平衡器,其中所述多个突起的每个的所述径向外侧表面关于所述旋转轴的宽度大于所述滚珠的所述半径。
10.根据权利要求9所述的滚珠平衡器,其中所述旋转装置在高速旋转模式和变速旋转模式之间转换,其中在所述高速旋转模式中所述旋转装置以大于所述第一转速的转速旋转,在所述变速旋转模式中所述转速在小于所述第一转速的范围内变化。
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