[发明专利]转印方法及转印装置有效
申请号: | 201210530126.0 | 申请日: | 2012-12-10 |
公开(公告)号: | CN103358744A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 谷口和隆;川越理史 | 申请(专利权)人: | 大日本网屏制造株式会社 |
主分类号: | B41M5/382 | 分类号: | B41M5/382;B41F16/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋晓宝;郭晓东 |
地址: | 日本国京*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明目的在于,在将担载于担载体上的被转印物转印到基板上的技术中,提供一种能防止与被转印物一起转印到基板上的定位标记妨碍以后的定位处理的技术。预先形成到基板侧的第一定位标记(AM1)包括彼此分离配置的多个图形图案(AP11~AP14),并且由它们包围而形成定位标记转印区域(TR)。在担载图案的橡皮布上使用图案形成材料来形成的第二定位标记(AM21)与第一定位标记(AM1)一起被拍摄,并基于它们的位置检测结果来对基板和橡皮布进行对位。此时,第二定位标记AM21定位到定位标记转印区域TR,并且定位到与图形图案(AP11~AP14)及已转印的第二定位标记分离的位置上,而转印到基板上。 | ||
搜索关键词: | 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种转印方法,将作为被转印物的图案或薄膜从担载所述被转印物的担载体转印到基板的规定位置上,其特征在于,该转印方法具有:保持工序,在使在表面形成有第一定位标记的所述基板和在表面上担载所述被转印物以及第二定位标记且具有透光性的所述担载体各自的定位标记形成面彼此相向的状态下,接近保持所述基板和所述担载体,其中,所述第二定位标记是使用与所述被转印物相同的材料来与所述被转印物一起形成的标记,拍摄工序,从所述担载体的与定位标记形成面相反的表面一侧,经由所述担载体在拍摄单元的同一视场内拍摄所述第一定位标记及所述第二定位标记,位置检测工序,基于所拍摄的图像,来检测出所述第一定位标记及所述第二定位标记的位置,定位工序,基于在所述位置检测工序中的检测结果来调整所述基板和所述担载体之间的相对位置,转印工序,使在所述定位工序中调整了相对位置的所述基板和所述担载体相抵接,来将所述担载体表面的所述被转印物及所述第二定位标记转印到所述基板上;形成在所述基板上的所述第一定位标记包括彼此分离配置的多个图形图案,而且,该多个图形图案配置为包围定位标记转印区域,在该定位标记转印区域内能够配置所述第二定位标记并使所述第二定位标记与各所述图形图案分离;在所述定位工序中,通过调整所述基板和所述担载体之间的相对位置,来在所述定位标记转印区域中的未转印所述第二定位标记的区域上,相向地定位所述第二定位标记;在所述转印工序中,将所述第二定位标记在所述定位标记转印区域内与所述多个图形图案分别分离地转印到所述基板上。
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