[发明专利]转印方法及转印装置

说明书

技术领域

本发明涉及用于将担载于担载体表面上的图案或薄膜转印到基板上的转印方法及转印装置。特别地涉及基于担载于担载体上的定位标记的拍摄结果来对基板和担载体进行对位的技术。

背景技术

作为在基板表面上形成图案或薄膜的技术，例如有如下技术，即，在平板状担载体（例如玻璃板）的表面上暂时担载作为被转印物的图案或薄膜，并通过使该担载体紧贴到基板表面上来将被转印物转印到基板表面上的技术。在这样的转印技术中，为了将被转印物恰当地转印到基板表面的规定位置，而需要进行对准担载体和基板之间的相对位置的定位处理。

作为能够利用于这样的用途的定位技术，例如有日本特开2004-151653号公报所述的技术。在该技术中，在应贴合的两个基板中的每个基板的表面形成定位标记，并基于利用拍摄单元（例如CCD照相机）拍摄它们而得到的图像来进行定位处理。具体而言，在将两基板配置成定位标记形成面彼此相向的状态下，经由透明的一个基板拍摄定位标记。而且，基于从拍摄而得到的图像检测出的两定位标记的位置关系，调整基板之间的相对位置。该技术涉及贴合两个基板时的定位处理，但通过将一个基板置换为担载体，该技术也是能够适用于通过将担载被转印物的担载体重叠到基板的规定位置上来转印被转印物时的对位的技术。

在这样的转印技术中，为了高精度地调节基板和转印该基板上的被转印物之间的位置关系，在担载体上形成被转印物时，存在使用与被转印物相同的材料来形成定位标记的情况。其原因在于，通过同时形成被转印物和定位标记来使担载体上的被转印物和定位标记之间的位置关系变得稳定，并且，通过在担载体侧和基板侧调整定位标记的位置，能够对基板和被转印物进行对位。

另一方面，此时将形成到担载体上的定位标记与被转印物一起转印到基板上。因此，例如在将多层被转印物转印到基板上的情况下，通过之前的转印来转印到基板上的定位标记会妨碍用于之后的转印的定位处理。然而，至今未提出用于解决这样的问题的技术。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而做出的，其目的在于，在将担载于担载体上的被转印物转印到基板上的技术中，提供一种能够防止与被转印物一起转印到基板上的定位标记妨碍以后的定位处理的技术。

本发明的一个方式是将作为被转印物的图案或薄膜从担载所述被转印物的担载体转印到基板的规定位置上的转印方法，为了达成上述目的，该转印方法的特征在于，具有：保持工序，在使在表面形成有第一定位标记的所述基板和在表面上担载所述被转印物以及第二定位标记且具有透光性的所述担载体各自的定位标记形成面彼此相向的状态下，接近保持所述基板和所述担载体，其中，所述第二定位标记是使用与所述被转印物相同的材料来与所述被转印物一起形成的标记，拍摄工序，从所述担载体的与定位标记形成面相反的表面一侧，经由所述担载体在拍摄单元的同一视场内拍摄所述第一定位标记及所述第二定位标记，位置检测工序，基于所拍摄的图像，来检测出所述第一定位标记及所述第二定位标记的位置，定位工序，基于在所述位置检测工序中的检测结果来调整所述基板和所述担载体之间的相对位置，转印工序，使在所述定位工序中调整了相对位置的所述基板和所述担载体相抵接，来将所述担载体表面的所述被转印物及所述第二定位标记转印到所述基板上；形成在所述基板上的所述第一定位标记包括彼此分离配置的多个图形图案，而且，该多个图形图案配置为包围定位标记转印区域，在该定位标记转印区域内能够配置所述第二定位标记并使所述第二定位标记与各所述图形图案分离；在所述定位工序中，通过调整所述基板和所述担载体之间的相对位置，来在所述定位标记转印区域中的未转印所述第二定位标记的区域上，相向地定位所述第二定位标记；在所述转印工序中，将所述第二定位标记在所述定位标记转印区域内与所述多个图形图案分别分离地转印到所述基板上。

在这样构成的发明的定位工序中，将与被转印物一起从担载体转印到基板表面上的第二定位标记，相向地定位到被第一定位标记的图形图案包围的定位标记转印区域中的未转印第二定位标记的区域。由此，在此时由拍摄单元拍摄得到的图像上，担载体表面的第二定位标记的像不与构成基板表面的第一定位标记的图形图案的像以及已转印到基板表面上的第二定位标记的像中的任何像重叠。即这些映像彼此孤立。